鈦合金微弧氧化技術推薦 日照微弧氧化電源

微弧氧化

       微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等，是通過電解液與相應電參數的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。2、氧化過的鋁因為有了一層三氧化氯氧化膜，所以耐腐蝕，鋁氧化化學性質比鋁更穩定。在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜，至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。

微弧氧化的工藝參數

       微弧氧化的工藝參數是指加工件上的外加電壓，一般說終電壓決定微弧氧化膜的厚度，它是不斷升高而達到的，不能一次性加至終電壓。微弧氧化膜的基本特性是與待處理材料及其表面狀態有關的，也與槽液類型、電解質溶液成、外加電壓、電流密度、槽液溫度和攪拌等因素有關。微弧氧化技術特點1、提高材料表面硬度微弧氧化膜層為表面多孔（孔徑為幾微米）、內部致密的陶瓷層。其中特別是加在工件上的電壓與電流密度對于氧化膜的性能至關重要。微弧氧化過程中有一個很大的優點就是外加電源突然中斷時可以直接繼續進行氧化，不需要除去工件上的氧化膜，也不必更換樣品重新處理。微弧氧化電源、微弧氧化生產線

微弧氧化工藝

      微弧氧化是通過用的微弧氧化電源在工件上施加高電壓，使工件表面的金屬與電解質溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，達到工件表面強化、硬度大幅度提高、耐磨、耐蝕、耐壓、絕緣及抗高溫沖擊特性得到改善的目的。溶液電導率：溶液電導率對微弧氧化工業鋁型材的生長速度和致密度都有影響。微弧氧化生產線、微弧氧化電源、微弧氧化工藝設備、微弧氧化工藝原理