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              新鄉真空鍍膜涂料的用途和特點,菱威真空鍍膜工廠

              發布時間:2021-05-12 06:46  

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                    普通真空鍍膜時,在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層,好似截然分開。而離子鍍時,離子高速轟擊工件時,能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴散層,離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米,對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明,一直拉到快要斷裂時,鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸,無起皮或剝落現象發生,可見附著多么牢固,膜層均勻,致密。


                     伴隨著耳機等產品的毛利的逐步下降以及小眾低價產品的沖擊,再加上貿易摩擦導致的成本上升和銷量的下降,許多制造商都在考慮進一步降低成本,比如在使用納米涂層這類輔助材料時也有很多制造商采購了一些市場上廉價的涂層產品,然而在著重考慮降成本的同時并未對材料是否真正環保做出檢測和評定,比如一款氣味低、不的納米涂層產品并不能代表他是無毒的,青山新材始終堅持做符合環保要求的涂層產品,從不為客戶提供有毒致癌的納米涂層。納米涂層僅指涂層是納米級厚度,但并非納米涂層就一定是環保涂層,這是兩個概念,一個是形態問題,一個是材料成分問題。

                     近日我們與國內材料實驗室一道對市面上的一些廉價納米涂層的環保性能進行了分析檢測,檢測結果很驚人,發現有些涂層含有、等物質,、是無色透明不燃燒的,被一些廉價納米涂層產品所采用,可以表象上給人以不燃燒、膜層薄、氣味較低、固化快等迷惑性特征,商家只注重于宣稱是納米涂層,然而其所包含的這些物質都屬于致癌物類別,長期接觸將對人體產生極大的危害。由于這些涂層原材料廉價因而可以以很低的價格售賣。




                     原子層沉積(ALD)是一種沉積原子級薄膜的技術,它是以一種連續脈沖的方式在樣品表面和反應前驅體材料之間發生化學反應。與傳統的等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術相比,沉積速率相對較慢,但是它可在高深寬比的溝槽和通孔結構上沉積均勻薄膜。另外,在原子層沉積過程中,樣品表面上沒有物理和電學損傷,而在PECVD過程中由于離子轟擊這種損傷卻不可避免。此外,通過使用不同的反應材料可沉積各種薄膜(氧化物,氟化物,氮化物,金屬等)。


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