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發布時間：2021-03-20 21:43
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恒緣鈦金與您分享蒸發鍍膜
通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發鍍膜設備結構
蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。③電子束加熱源：適用于蒸發溫度較高(不低于2000[618-1])的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間(或決定于裝料量)，并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。
uv鍍武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務的廠家，主要鍍膜產品有不銹鋼，鐵，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據客戶的產品進行設計和定制。
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根據涂層方法不同，涂層刀具可分為化學氣相沉積（簡稱CVD）涂層刀具、物理氣相沉積（簡稱PVD）涂層刀具及混合工藝及組合技術。TiN涂層的耐氧化性較差，使用溫度達500℃時，膜層明顯氧化而被燒蝕，而且它的硬度也滿足不了需要。混合工藝是等離子輔助CVD技術與傳統的PVD技術進行有效的結合。比如先沉積傳統的CrN硬質涂層，再在上面沉積一層用于減少摩擦的DLC涂層。組合技術是涂層前對工具或零部件的表面層進行氮化，可以提高涂層的功效。
CVD可以涂覆耐磨損性優異的TiCN、耐熱性非常優異的Al2O3厚膜，因此在產生高溫的高速、率切削加工中能顯示出長壽命。
PVD一般用在與無涂層硬質合金、高速鋼相同或較高速的切削速度條件下，以延長l刀具壽命為目標。對基體制約少、損傷小，因此特別適合用于要求耐磨損性、耐崩刃性的刀具，也適用于要求鋒利刃口的低進給加工與精加工或螺紋加工工具等。
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真空鍍膜機保養知識：
1. 關閉泵加熱系統，然后分離蒸鍍室（主要清潔灰塵，于蒸鍍殘渣）
2. 關閉電源或程序打入維護狀態
3. 清潔卷繞系統（幾個滾軸，方阻探頭，光密度測量器）
4. 清潔中罩室（面板四周）
5. 泵系統冷卻后打開清潔（注意千萬不能掉入雜物，檢查泵油使用時間與量計做出更換或添加處理）
6. 檢查重冷與電氣柜設備
