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              甘肅鋁板腐蝕機(jī)器廠家優(yōu)惠報(bào)價(jià),藍(lán)光同茂質(zhì)優(yōu)價(jià)廉

              發(fā)布時(shí)間:2020-12-28 12:52  

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               刻蝕機(jī)目前國(guó)際上主要的供應(yīng)商為應(yīng)用材料、LamResearch等。中國(guó)方面技術(shù)有慢慢追上的趨勢(shì),即將登錄科創(chuàng)板的中微半導(dǎo)體,其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電(2330-TW)驗(yàn)證,將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。而北方華創(chuàng)則是在14nm技術(shù)有所突破。市場(chǎng)預(yù)估今明兩年中國(guó)刻蝕機(jī)需求分別達(dá)15億美元與20億美元。    拋光:可以使晶圓表面達(dá)到性的平坦化,以利后續(xù)薄膜沉積工序。美國(guó)應(yīng)用材料、Rtec等均為國(guó)際上主要供應(yīng)商,中國(guó)則有中電科裝備、盛美半導(dǎo)體等。但陸廠的產(chǎn)品才剛打入8寸晶圓廠中,12寸的相關(guān)設(shè)備還在研發(fā),明顯與國(guó)際大廠有實(shí)力上的差距。市場(chǎng)預(yù)計(jì)今明兩年中國(guó)拋光機(jī)需求將達(dá)3.77億美元與5.11億美元。




              不銹鋼表面化學(xué)加工

              用三氯化鐵對(duì)不銹鋼制品的局部表面進(jìn)行腐蝕,在其表面刻畫出各種花紋、圖案、文字、LOGO等。化學(xué)腐蝕過程是現(xiàn)在需腐蝕的不銹鋼表面涂上保護(hù)油墨或貼上不干膠。然后放入三氯化鐵和少量鹽酸組成的蝕刻液,不銹鋼表面層與三氯化鐵作用,生成的氯化物溶解在蝕刻液中或沉積在不銹鋼表面。

              而根據(jù)上述工藝流程得知所需設(shè)備分別為:

              工序1.涂布機(jī):主要用于工件涂油墨做保護(hù)層,用涂布機(jī)上油墨是現(xiàn)如今技術(shù)成熟的一種方式,特點(diǎn)是均勻、省時(shí)、省人工、產(chǎn)量高、省耗材等等。

              工序2.烤   箱:主要用于涂的油墨烤干,防止油墨流掛,加深固化

              工序3.曝光機(jī):主要用于光固工件上的局部感光油墨,形成圖像轉(zhuǎn)移,通過開啟紫外線燈光發(fā)出UVA波長(zhǎng)的紫外線,將菲林片上的圖案轉(zhuǎn)移到涂有感光油墨的工件上

              工序4.顯影機(jī):主要用于感光工藝,曝光后將產(chǎn)品表面圖案顯現(xiàn)出來,然后進(jìn)入蝕刻工序,可實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)。

              工序5.蝕刻機(jī):主要用于腐蝕工件上露出的金屬部分,使用蝕刻液通過高壓噴淋移除部分金屬的腐蝕設(shè)備。

              工序6.超聲波清洗機(jī):主要用于清洗經(jīng)過腐蝕后多余的油墨得到成品。





               用我們的機(jī)器生產(chǎn)鏤空切割產(chǎn)品,具有精度高,速度快,成品率高等優(yōu)點(diǎn),同時(shí)藥液使用充分,大大降低生產(chǎn)成本。進(jìn)料寬度與蝕據(jù)客戶要求定制。    金屬蝕刻機(jī)、金屬腐蝕機(jī)應(yīng)用范圍:    適用于高精度、金屬標(biāo)牌,高精度薄板金屬電子零部件(如手機(jī)金屬按鍵面板、金屬網(wǎng)片、精密過濾網(wǎng)等)加工制造。蝕刻精度:根據(jù)制版而定制版精度0.2微米。






              不銹鋼蝕刻的分類

              按蝕刻過程的分,主要有化學(xué)蝕刻和電化學(xué)蝕刻?;瘜W(xué)蝕刻是不銹鋼和環(huán)境介質(zhì)直接發(fā)生化學(xué)作用而產(chǎn)生的損壞,在蝕刻過程中沒有電生。例如不銹鋼在高溫的空氣中或中的蝕刻,非電解質(zhì)對(duì)不銹鋼的蝕刻機(jī)等。弓}起不銹鋼化學(xué)蝕刻的介質(zhì)不能導(dǎo)電。電化學(xué)蝕刻是不銹鋼在電解質(zhì)溶液中發(fā)生電化學(xué)作用而引起的損壞,在蝕刻過程中有電生。引起電化學(xué)蝕刻的介質(zhì)都能導(dǎo)電。例如,不銹鋼在酸、堿、鹽、土壤、海水等介質(zhì)中的蝕刻。電化學(xué)蝕刻與化學(xué)蝕刻的主要區(qū)別在千它可以分解為兩個(gè)相互獨(dú)立而又同時(shí)進(jìn)行的陰極過程和陽極過程,而化學(xué)蝕刻沒有這個(gè)特點(diǎn)。電化學(xué)蝕刻比化學(xué)蝕刻更為常見和普遍。






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