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              磁控濺射機廠家給您好的建議「多圖」

              發布時間:2021-10-12 17:33  

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              臥式磁控濺射鍍膜機

              以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容,沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產磁控濺射產品,歡迎新老客戶蒞臨。

              主要用途:  

              用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。  

              系統組成:  

              主要由真空室系統濺射室、靶及電源系統、樣品臺系統、真空抽氣及測量系統、氣路系統、控制系統、電控系統、計算機控制系統及輔助系統等組成。



              磁控濺射鍍膜設備的主要用途

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業磁控濺射產品供應商,我們為您帶來以下信息。

              1.各種功能性的薄膜鍍膜。所鍍的膜一般能夠吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。

              2.時裝裝飾領域的應用,比如說各種全反射鍍膜以及半透明鍍膜,可適用在手機外殼、鼠標等產品上。

              3.微電子行業領域中,其是一種非熱式鍍膜技術,主要應用在化學氣象沉積上。

              4.在光學領域中用途巨大,比如說光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻 璃和透明導電玻璃等方面得到應用。

              5.在機械行業加工中,其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能夠提供物品表面硬度從而提高化學穩定性能,能夠延長物品使用周期。



              自動磁控濺射系統概述

              帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,大到6'旋轉平臺,可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。(1)各種功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。

              帶有14”立方形不銹鋼腔體,4個2”的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,350 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。

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