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光刻機光刻機是生產大規模集成電路的核心設備，制造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握，因此光刻機價格昂貴。光刻機光刻過程必須在高真空環境中實現，原因是極紫外光很嬌貴，在空氣中容易損耗。該泵的雙級設計使其可以在較低工作溫度下使用，并最da限度減少低壓強造成油蒸汽的回流現象，同時在10-2mbar的低壓范圍內具有良好的抽氣速率和氣鎮效果。同時，在光刻過程中，設備的動作時間誤差以皮秒計，這對磁懸浮分子泵的振動值要求極高。 varian真空分子泵修復