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發(fā)布時(shí)間:2020-12-20 07:34  
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蝕刻曝光就是通過(guò)曝光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除,在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液,達(dá)到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
顯影是在硅片表面光刻膠中產(chǎn)生圖形的關(guān)鍵步驟。光刻膠上的可溶解區(qū)域被化學(xué)顯影劑溶解,將可見(jiàn)的島或者窗口圖形留在硅片表面。常見(jiàn)的顯影方法是旋轉(zhuǎn)、噴霧、浸潤(rùn),然后顯影。硅片用去離子水沖洗后甩干。
檢查OK后才可以放入下一道工序:蝕刻。經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展,亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工,感光(爆光)完成后就要進(jìn)行下一步工作:顯影;顯影的目的是通過(guò)顯影將未爆光的地方?jīng)_走,經(jīng)過(guò)爆光的地方固化,形成蝕刻圖案,經(jīng)過(guò)顯影后質(zhì)檢員對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行檢查,把顯影不到的地方或圖案不良的產(chǎn)品挑選出來(lái),良品則進(jìn)入下一道工序:封油。
同樣,如果蝕刻的時(shí)間太長(zhǎng),特別是蝕刻液溫度較高的情況下,耐蝕油墨或防護(hù)涂層浸漬時(shí)間過(guò)長(zhǎng),也同樣起到上述的副作用和不良后果,因此時(shí)間控制上也要適當(dāng),不能浸得太久,一般不宜超過(guò)20~25min。簡(jiǎn)單的講蝕刻工藝是五金沖壓工藝的延伸,也稱為光化學(xué)蝕刻,也有人稱為腐蝕。五金沖壓是開(kāi)模具沖壓成型,但沖壓工藝比較粗糙。公差大,精度不高,對(duì)于高粗度的零件解決不了,蝕刻工藝解決了工業(yè)生產(chǎn)中對(duì)高精密零件需求。