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低輻射鍍膜玻璃又稱低輻射玻璃、“Low-E”玻璃，是一種對波長范圍4.5~25μm的遠紅外線有較高反射比的鍍膜玻璃（高透型Low-E）。低輻射鍍膜玻璃還能夠復合陽光操控功用，稱為陽光操控低輻射玻璃（遮陽型Low-E）。

低輻射鍍膜玻璃（高透型Low-E）適用于高緯寒區域，夏熱冬冷區域宜選用陽光操控低輻射鍍膜玻璃（遮陽型Low-E）。

應用多層膜干涉原理的薄膜防偽技術主要有兩種：一種是“整膜”的薄膜防偽技術；另一種是“碎膜”防偽技術。整膜和碎膜是指膜的形態而言。整膜是指一般意義上的防偽膜系；碎膜是指對反射式防偽膜系進行破碎，然后將碎片加入油墨中制成防偽油墨，再用這種防偽油墨進行防偽印刷。

防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜轉移式或間接鍍膜剪貼式。

真空鍍膜(包括物理氣相沉積和化學氣相沉積等)就是通過各種手段把被鍍物質轉換為氣態，在帶鋼表面形成薄膜鍍層。理論上所有的金屬、非金屬、有機物都能通過這個方式形成鍍層。

這種技術可以優化組合形成多工藝、具有很高靈活性的復合鍍膜工藝，適應各種性能要求。因此，這種新技術的研發和實施將是鋼鐵企業表面技術和產品應對挑戰的超佳戰略。

與鏈條式傳送機構相比，該機構為剛性傳送，不存在齒合不準確問題同時，由于需要的過渡空間小，可以節約真空室之間閥門的開關時間、進一步減少不同真空室之間的氣氛互串。因而極大的提高了鍍膜工藝穩定可靠性、成品率，降低能耗和成本等。

隨著鍍膜技術的發展，各類真空鍍膜機也逐漸出現，不管是哪種真空鍍膜機，薄膜的均勻性都會受到一些因素的影響。現在，我們就以磁濺射真空鍍膜機來分析成膜不均勻的因素。