上海真空氦質(zhì)譜檢漏儀品牌服務至上 科創(chuàng)真空公司

氦質(zhì)譜檢漏儀故障與處理

定位方法

采用噴吹法對各密封部位的氣密性進行檢測，因檢漏儀內(nèi)部結構緊湊，各密封結構間的距離很近，檢測時定位難度較大。經(jīng)摸索，在檢測時采用以下技巧，可提高定位的能力：①查漏前，先將分子泵風扇的電源斷開，避免風扇將氦源吹散至各個密封環(huán)節(jié)，造成定位不準確。工業(yè)使用的高純氦氣，其成本較高，一瓶達幾千元，如果使用高純氦直接檢測其花費的成本大。②噴吹時，要嚴格控制氦源的流量，盡量采用噴槍咀流量小的噴槍，提高定位的能力。③儀器的反應時間小于1 s，所以在一個部位噴吹的時間約3 s，再等待約3 s 后觀測信號有無變化。

本產(chǎn)品信息由科創(chuàng)真空提供，如果您想了解更多您可撥打圖片上的電話進行咨詢！科儀創(chuàng)新竭誠為您服務！

氦質(zhì)譜檢漏儀的特點

北京科創(chuàng)鼎新真空技術有限公司（簡稱：科創(chuàng)真空）是從事真空系統(tǒng)設計、制造及真空技術服務的專業(yè)化公司。

1.檢測時間和周期非常短，可以達到5s以內(nèi)；

2.檢測的介質(zhì)比較常用，僅需壓縮空氣即可；

3.不會受到主觀因素判斷的影響；

4.檢測的數(shù)據(jù)精準；

5.自動生成數(shù)據(jù)保存，可追溯數(shù)據(jù)來源。

今天和大家分享的是真空箱氦檢漏系統(tǒng)特征及優(yōu)點，如果您想了解更多您可撥打圖片上的電話進行咨詢！！！

真空法氦質(zhì)譜檢漏

采用真空法檢漏時，需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空，采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣，當被檢產(chǎn)品表面有漏孔時，氦氣就會通過漏孔進入被檢產(chǎn)品內(nèi)部，再進入氦質(zhì)譜檢漏儀，從而實現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測量。按照施漏氣體方法的不同，又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。的制造商必須確保產(chǎn)品至少可以維持20年的隔熱功能，以確保發(fā)電廠持續(xù)正常地運轉(zhuǎn)。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣，可以實現(xiàn)漏孔的準確定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來，在罩內(nèi)充滿一定濃度的氦氣，可以實現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測量。

科創(chuàng)真空擁有先進的技術，我們都以質(zhì)量為本，信譽高，我們竭誠歡迎廣大的顧客來公司洽談業(yè)務。如果您對氦檢漏感興趣，歡迎點擊左右兩側(cè)的在線客服，或撥打咨詢電話。

氦質(zhì)譜檢漏儀應用于化工管道檢漏

化學氣體大部分為有毒氣體，對人體造成很大的傷害，甚至會出現(xiàn)停止呼吸而。化學氣體泄漏事故不僅給公司造成巨額損失，而且給周邊村民造成傷害，生態(tài)環(huán)境也會遭到嚴重受損。氦質(zhì)譜檢漏儀原理:氦質(zhì)譜檢漏儀是一種以氦氣作為示漏氣體專門用于檢漏的質(zhì)譜分析儀器。為了避免事故的發(fā)生，化工廠商在投建廠房時就應該對化學管道和設備做氣密檢漏并且后期生產(chǎn)中也需要定期檢漏。常用的傳統(tǒng)氣體管道檢漏方法，如氣泡法和肥皂法在化工廠等有害氣體的管道檢漏不實用，檢測到微漏的氦質(zhì)譜檢漏儀成為了化工廠安全生產(chǎn)作業(yè)的保障。

氦質(zhì)譜檢漏儀是用示蹤氣體氦氣的專門用于檢漏的儀器，它性能穩(wěn)定，靈敏度高，是真空檢漏技術中較成熟的設備，使用比較普遍的檢漏儀。為工廠作業(yè)人員的安全以及環(huán)境保護，氦質(zhì)譜檢漏儀成為化工管道檢漏的不二的選擇。

氦質(zhì)譜檢漏儀在管道檢測方面有兩種檢測方法，負壓法和正壓法，一般化工管道采用的是負壓法。負壓法就是常說的抽真空，這是氦質(zhì)譜檢漏儀常用的檢漏方法。主要有離子源、分析器、收集放大器、冷陰極電離真空計組成，離子源是氣體電離，形成一束具有特定能量的離子，分析器是一個均勻的磁場空間，不同離子的質(zhì)荷比不同。檢漏的方式是：鏈接被檢化工管道和真空泵組以及氦質(zhì)譜檢漏儀，用真空泵組把管道抽真空，達到一定真空度。使用氦氣噴槍在管道密封接頭，焊縫處噴氦，如果被檢管道某處有泄漏，當氦噴到漏孔上時，氦氣會立刻被吸入到真空系統(tǒng)，從而擴散到質(zhì)譜室內(nèi)，氦質(zhì)譜檢漏儀感應到氦就會立刻有響應。從而達到了檢漏的結果。氦氣是較輕的惰性氣體，在噴出時會自動上升，為了準確找到漏孔位置噴氦，使用此方法時噴氦自上而下，由近至遠（相對檢漏儀的位置），這是因為在下方時有可能被上方漏孔吸入；漏孔距離質(zhì)譜室的距離檢漏儀反應時間也不同，所以噴氦氣應先從靠近檢漏儀的一側(cè)開始由近至遠進行。