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              發(fā)布時(shí)間:2021-10-19 07:00  

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              真空鍍膜機(jī)的厚度均勻性主要取決于

              1.基片材料與靶材的晶格匹配度

              2.基片表面溫度

              3.蒸發(fā)功率、蒸發(fā)率

              4.真空度

              5.涂層時(shí)間和厚度。

              成分均勻性:蒸發(fā)涂層的成分均勻性不易保證??烧{(diào)節(jié)的具體因素同上。但由于原理上的限制,非單組分涂層的蒸發(fā)涂層組分均勻性較差。

              晶向均勻性:1、晶格匹配度  2、基片溫度  3、蒸發(fā)速率。



              PVD是物理氣相沉積技術(shù)的簡(jiǎn)稱,是指在真空條件下,采用物理的方法將材料(俗稱靶材或膜料)氣化成氣態(tài)分子、原子或離子,并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù),常見的PVD沉積技術(shù)有:蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)、電弧技術(shù)。

              目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蝕性能的方法有添加合金元素和外加防護(hù)性鍍層,但主要以添加防護(hù)性鍍層(金屬鍍層、有機(jī)物鍍層和復(fù)合鍍層)為主。普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量,這對(duì)采光和吸收太陽光線的能量十分有利。防護(hù)性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。添加鍍層的方法有電鍍、化學(xué)鍍、物理氣相沉積等。





              真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。防護(hù)性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。真空電鍍當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后,真空電鍍促使待鍍材料—蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。真空電鍍蒸發(fā)料粒子獲得一定動(dòng)能,真空電鍍則沿著視線方向徐徐上升,后真空電鍍附著于工件外表上堆積成膜。真空電鍍用這種工藝形成的鍍層,真空電鍍與零件外表既無牢固的化學(xué)結(jié)合。汽車配件納米鍍膜設(shè)備


              裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種,它們主要起提高膜層的結(jié)合力,降低鍍件表面的粗糙度,提高光亮度,保護(hù)金屬膜層的作用。


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