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ST系列鍍膜機(jī)

ST系列鍍膜機(jī)系我司標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品，滿足大部分實驗室科研需求，豐富的可選配置也可響應(yīng)您的特殊需要。特點(diǎn)：1、集成一體化結(jié)構(gòu)。

2、極限真空度高，可達(dá)7×10-5Pa，可保證更高的鍍膜純凈度，提高鍍膜質(zhì)量。

3、從大氣到工作背景真空（7×10-4Pa）時間短，30分鐘左右（充干燥氮?dú)猓?系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時后真空度：≤8Pa。

4、整機(jī)采用柜式結(jié)構(gòu)，密封性能好，防塵防水，安全。

5、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選。

本信息由艾明坷為您提供，如果您想了解更多產(chǎn)品信息，您可撥打圖片上的電話咨詢，艾明坷竭誠為您服務(wù)！

鍍膜機(jī)操作程序

真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時請參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。

① 檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在'關(guān)'位置。

② 打開總電源開關(guān)，設(shè)備送電。

③ 低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。

④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。

⑤ 落下鐘罩。

⑥ 啟動抽真空機(jī)械泵。

艾明坷科技有限公司專業(yè)生產(chǎn)手套箱，如您想了解更多您可撥打圖片上的電話進(jìn)行咨詢！

真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域

在平板顯示器中

所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且，幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜，以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說，沒有薄膜技術(shù)，就沒有平板顯示器件。

在太陽能利用方面

當(dāng)需要有效地利用太陽熱能時，就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。如需了解更多真空鍍膜的相關(guān)信息，歡迎關(guān)注艾明坷網(wǎng)站或撥打圖片上的電話詢。由于太陽輻射與熱輻射光譜在波段上有差異，因此，為了有效地利用太陽熱能，就必須考慮采用具有波長選擇特性的吸收面。

理想的選擇吸收面，是太陽輻射光譜的波段（可見光波段）吸收率（α）為1，在熱輻射波段（紅外波段）輻射率（ε）為0。

在防偽技術(shù)中

防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

在飛機(jī)防護(hù)涂層方面

飛機(jī)的鈦合金緊固件，原來采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫，所以在飛行過程中，受到大氣、海水的腐蝕，鍍層上容易產(chǎn)生“鎘脆”，甚至引起“空難”。

1964年，采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁，解決了飛機(jī)零件的“鎘脆”問題。在離子鍍技術(shù)中，由于給工件施加負(fù)偏壓，可以形成“偽擴(kuò)散層”、細(xì)化膜層組織，因此，可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。

在光學(xué)儀器中

人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

在信息存儲領(lǐng)域中

薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì)，有其得天獨(dú)厚的優(yōu)勢：

由于薄膜很薄，可以忽略渦流損耗；磁化反轉(zhuǎn)極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。

為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用鍍膜技術(shù)。

在傳感器方面

在傳感器中，多采用那些電氣性質(zhì)相對于物理量、化學(xué)量及其變化來說，極為敏感的半導(dǎo)體材料。此外，其中，大多數(shù)利用的是半導(dǎo)體的表面、界面的性質(zhì)，需要盡量增大其面積，且能工業(yè)化、低價格制作，因此，采用薄膜的情況很多。

在集成電路制造中

晶體管路中的保護(hù)層（SiO2、Si3N4）、電極管線等，多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。可見，氣相沉積是制備集成電路的核心技術(shù)之一。

常見的真空鍍膜材料

氧化物一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

其它化合物硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫1化鎘CdS等真空鍍膜材料。

金屬鍍膜材料高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆粒灰塵，有無腐蝕性等。