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真空鍍膜加工是利用化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

裝飾真空鍍膜設備是蒸發式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

　真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法。在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。在真空條件下成膜有很多優點：可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等）。

真空鍍膜技術的應用時較早的。真空鍍膜技術在電子方面開始是用來制造電阻和電容元件，之后隨著半導體技術在電機學領域中的應用，又使這一技術成為晶體管制造和集成電路生產的必要工藝手段。近年來，隨著集成路向大規模和超大規模集成方向發展，從而又對真空鍍膜技術提出了新的要求。因而在電機學領域中又產生了一個新的分支一薄膜微電子學。真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產品的質量。在進入鍍膜室之前，工件須在電鍍前仔細清洗。

真空鍍膜設備普遍應用于工業生產，無論是小產品還是大產品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產品。

真空鍍膜是一種由物理方法造成塑料薄膜原材料的技術性，在真空泵房間內原材料的分子從加溫源混凝土離析出去打進被鍍物件的表層上。后拓寬到別的作用塑料薄膜，裝飾設計鍍膜和原材料表層改性材料等。真空鍍膜有三種方式，即揮發鍍膜、磁控濺射鍍膜和等離子噴涂。整體而言，真空鍍膜的關鍵作用包含授予被鍍件表層高寬比金屬質感和鏡面玻璃實際效果，在塑料薄膜原材料上使膜層具備優異的隔絕特性，出示出色的磁屏蔽材料和導電性實際效果。