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              發布時間:2021-10-18 05:46  

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              與基體附著強度好,膜層牢固。

              護睛罩防霧處理既不產生肺液也無環境污染。護睛罩防霧處理技術在電子學等方面主要用來制造電阻和電容元件。


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              光學護睛罩防霧處理在高真空度的鍍膜腔中實現。常規鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃);而較先進的技術,如離子輔助沉積可在室溫下進行。工藝不但生產比常規鍍膜工藝具有更好物理特性的護睛罩防霧處理,而且可以應用于塑料制成的基底。




              護睛罩防霧處理的光學性質,如折射率、吸收和護睛罩防霧處理損傷閾值,主要依賴于膜層的顯微結構。護睛罩防霧處理材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響護睛罩防霧處理的顯微結構。



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