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              中頻離子鍍膜機(jī)價格

              發(fā)布時間:2020-08-18 05:47  

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              如何采用真空鍍膜設(shè)備在眼鏡片上


              現(xiàn)在配眼鏡時,需要在眼睛上加膜,采用真空鍍膜設(shè)備鍍膜主要有兩個作用:

              1、增加鏡頭透光率;2、防止散光干擾,提高清晰度。

              采用真空鍍膜設(shè)備進(jìn)行鏡片鍍膜需要注意以下問題:

              1、鏡片需要清洗

              需要采用各種清洗液進(jìn)行鏡片清洗,清洗度要高。清洗完成之后,放進(jìn)鍍膜設(shè)備的真空倉內(nèi),過程中不能沾染灰塵。采用離子槍轟擊鏡片表面,就可以進(jìn)行鍍膜了。

              2、膜層的牢固性

              膜層的牢固性將影響鏡片的質(zhì)量個磨損度。

              3、再鍍抗污膜

              鏡片的表面容易產(chǎn)生污漬,使得鏡片模糊不清,我們可以在鏡片表面鍍上多層發(fā)射膜,減少油污或其他污漬。佳的方法就是采用真空鍍膜,可以使用蒸發(fā)工藝將氟化物鍍于反射膜上。



              真空卷繞鍍膜機(jī)


              的卷繞系統(tǒng)采用四電機(jī)驅(qū)動,恒張力控制,可實現(xiàn)距離卷繞和接觸卷繞兩種卷繞方式。提供了多種不同的卷繞方式,以適用于所鍍制的薄膜種類和工藝要求。在卷繞系統(tǒng)中設(shè)置了適用于CPP、PET、OPP等多種塑料薄膜特殊的展平裝置,能達(dá)到無褶皺、無劃傷、無邊緣積聚的優(yōu)良蒸鍍和收卷質(zhì)量。強(qiáng)勁實用的抽真空系統(tǒng)相對獨(dú)立的卷繞室和蒸發(fā)室,每一個室都有一套獨(dú)立的真空泵組與其對應(yīng)。能在很短的時間內(nèi)達(dá)到鍍膜所需的工作真空度,使設(shè)備的生產(chǎn)率得到很大地提高。蒸發(fā)源系統(tǒng)通過嚴(yán)密的計算采取恰當(dāng)?shù)恼舭l(fā)距離和舟間距,采取交錯安裝的排布形式,使用兩端頂持的舟安裝方式保證了良好的蒸鍍均勻性的成膜質(zhì)量。可以使用普通蒸發(fā)速率的陶瓷蒸發(fā)舟,也可以使用高蒸發(fā)率的蒸發(fā)舟。其功率可達(dá)14KVA,蒸發(fā)速率可達(dá)9克/分鐘。冷卻加熱系統(tǒng):蒸鍍輥配制有獨(dú)立的冷卻加熱系統(tǒng),采用特殊的油導(dǎo)熱介質(zhì),能有效的冷卻蒸鍍輥,防止薄膜熱損傷。等離子預(yù)處理裝置:在鍍前對薄膜表面進(jìn)行離子轟擊處理,除去薄膜表面吸附的水氣及雜質(zhì),提高附著力,改善鍍膜質(zhì)量。簡單便捷的控制系統(tǒng):便捷的全自動控制系統(tǒng)和友好的操作界面,可根據(jù)需要分別采用手動、半自動以及自動方式。


              離子真空鍍膜機(jī)可以在哪些產(chǎn)品上面使用?


              目前市面上,常把離子真空鍍膜機(jī),按照應(yīng)用領(lǐng)域來分,常見的有:不銹鋼板離子真空鍍膜機(jī)、五金裝飾離子鍍膜機(jī)、瓷磚離子真空鍍膜機(jī)、已經(jīng)陶瓷離子鍍膜機(jī)。應(yīng)用的領(lǐng)域不一樣,名稱不太相同,但是鍍膜原理大概類似,不過也有一些不同的差異。例如瓷磚離子鍍膜機(jī),主要是用于瓷磚、瓷片、日用陶瓷制品(如步具文具、工藝陶瓷(如花瓶、人物、觀賞擺設(shè))等,如餐具茶具咖啡具、酒具、飯具文房用具等。在日用細(xì)瓷器、日用普瓷器、日用炻瓷器、骨質(zhì)瓷器、玲瓏日用瓷器、釉下(中)彩日用瓷器、日用精陶器等上獲得廣泛的應(yīng)用。不銹鋼離子鍍膜機(jī),不銹鋼飾板離子鍍膜機(jī)專為不銹鋼飾板離子鍍裝飾膜層設(shè)計,離子鍍膜層有真實的金屬質(zhì)感,這是化學(xué)鍍不銹鋼彩板不能比擬的。



              真空鍍膜設(shè)備鍍膜過程的均勻性到底多重要?

              真空鍍膜設(shè)備鍍膜過程的均勻性到底多重要? 厚度均勻性主要取決于: 1、基片材料與靶材的晶格匹配程度;2、基片表面溫度;3、蒸發(fā)功率,速率;4、真空度;5、鍍膜時間,厚度大小。組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性:1、晶格匹配度;2、基片溫度;3、蒸發(fā)速率. 對于不同的濺射材料和基片,參數(shù)需要實驗確定,是各不相同的,鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否控溫,能否保證好的真空度,能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù),已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問題,但是基本用于實驗研究,工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機(jī)主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。


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