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              光譜膜厚儀量大從優(yōu)“本信息長(zhǎng)期有效”

              發(fā)布時(shí)間:2020-10-09 10:14  

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              一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

              元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

              一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

              xiao測(cè)量面積0.002m㎡  深凹槽20mm以上

              鍍層厚度分析儀測(cè)量原理與儀器

              一. 磁吸力測(cè)量原理鍍層厚度分析儀

              磁鐵(測(cè)頭)與導(dǎo)磁鋼材之間的吸力大小與處于這兩者之間的距離成一定比例關(guān)系,這個(gè)距離就是覆層的厚度。X射線波長(zhǎng)色散型光譜儀一般有光源(X-射線管)、樣品室分光晶體和檢測(cè)系統(tǒng)等組成。利用這一原理制成測(cè)厚儀,只要覆層與基材的導(dǎo)磁率之差足夠大,就可進(jìn)行測(cè)量。鑒于大多數(shù)工業(yè)品采用結(jié)構(gòu)鋼和熱軋冷軋鋼板沖壓成型,所以磁性測(cè)厚儀應(yīng)用廣。測(cè)厚儀基本結(jié)構(gòu)由磁鋼,接力簧,標(biāo)尺及自停機(jī)構(gòu)組成。磁鋼與被測(cè)物吸合后,將測(cè)量簧在其后逐漸拉長(zhǎng),拉力逐漸增大。當(dāng)拉力剛好大于吸力,磁鋼脫離的一瞬間記錄下拉力的大小即可獲得覆層厚度。新型的產(chǎn)品可以自動(dòng)完成這一記錄過(guò)程。不同的型號(hào)有不同的量程與適用場(chǎng)合。這種儀器的特點(diǎn)是操作簡(jiǎn)便、堅(jiān)固耐用、不用電源,測(cè)量前無(wú)須校準(zhǔn),價(jià)格也較低,很適合車間做現(xiàn)場(chǎng)質(zhì)量控制。

              二. 磁感應(yīng)測(cè)量原理鍍層厚度分析儀

              采用磁感應(yīng)原理時(shí),利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,來(lái)測(cè)定覆層厚度。X-RAY測(cè)厚儀特點(diǎn)1,價(jià)格高,機(jī)種不同,價(jià)格在10萬(wàn)~100萬(wàn)左右,可測(cè)試P(磷)~U(鈾),并且支持Rohs及元素分析功能等。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小,來(lái)表示其覆層厚度。覆層越厚,則磁阻越大,磁通越小。利用磁感應(yīng)原理的測(cè)厚儀,原則上可以有導(dǎo)磁基體上的非導(dǎo)磁覆層厚度。一般要求基材導(dǎo)磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性,則要求與基材的導(dǎo)磁率之差足夠大(如鋼上鍍鎳)。當(dāng)軟芯上繞著線圈的測(cè)頭放在被測(cè)樣本上時(shí),儀器自動(dòng)輸出測(cè)試電流或測(cè)試信號(hào)。早期的產(chǎn)品采用指針式表頭,測(cè)量感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)的大小,儀器將該信號(hào)放大后來(lái)指示覆層厚度。近年來(lái)的電路設(shè)計(jì)引入穩(wěn)頻、鎖相、溫度補(bǔ)償?shù)鹊匦录夹g(shù),利用磁阻來(lái)調(diào)制測(cè)量信號(hào)。還采用專利設(shè)計(jì)的集成電路,引入微機(jī),使測(cè)量精度和重現(xiàn)性有了大幅度的提高(幾乎達(dá)一個(gè)數(shù)量級(jí))。現(xiàn)代的磁感應(yīng)測(cè)厚儀,分辨率達(dá)到0.1um,允許誤差達(dá)1%,量程達(dá)10mm。磁性原理測(cè)厚儀可應(yīng)用來(lái)測(cè)量鋼鐵表面的油漆層,瓷、搪瓷防護(hù)層,塑料、橡膠覆層,包括鎳鉻在內(nèi)的各種有色金屬電鍍層,以及化工石油待業(yè)的各種防腐涂層。

              三. 電渦流測(cè)量原理鍍層厚度分析儀

              高頻交流信號(hào)在測(cè)頭線圈中產(chǎn)生電磁場(chǎng),測(cè)頭靠近導(dǎo)體時(shí),就在其中形成渦流。任選靶材:W、Mo、Ag等X射線管:管電壓50KV,管電流1mA可測(cè)元素:CI~U檢測(cè)器:正比計(jì)數(shù)管樣品觀察:CCD攝像頭測(cè)定軟件:薄膜FP法、檢量線法Z軸程控移動(dòng)高度20mm。測(cè)頭離導(dǎo)電基體愈近,則渦流愈大,反射阻抗也愈大。這個(gè)反饋?zhàn)饔昧勘碚髁藴y(cè)頭與導(dǎo)電基體之間距離的大小,也就是導(dǎo)電基體上非導(dǎo)電覆層厚度的大小。由于這類測(cè)頭專門測(cè)量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度,所以通常稱之為非磁性測(cè)頭。非磁性測(cè)頭采用高頻材料做線圈鐵芯,例如鉑鎳合金或其它新材料。與磁感應(yīng)原理比較,主要區(qū)別是測(cè)頭不同,信號(hào)的頻率不同,信號(hào)的大小、標(biāo)度關(guān)系不同。與磁感應(yīng)測(cè)厚儀一樣,渦流測(cè)厚儀也達(dá)到了分辨率0.1um,允許誤差1%,量程10mm的高水平。

              采用電渦流原理的測(cè)厚儀,原則上對(duì)所有導(dǎo)電體上的非導(dǎo)電體覆層均可測(cè)量,如航天航空器表面、車輛、家電、鋁合金門窗及其它鋁制品表面的漆,塑料涂層及陽(yáng)極氧化膜。X射線熒光光譜分析可以非破壞性同時(shí)完成組分和厚度測(cè)試,厚度的測(cè)量范圍視材料和元素而定,通常在1nm-50um之間。覆層材料有一定的導(dǎo)電性,通過(guò)校準(zhǔn)同樣也可測(cè)量,但要求兩者的導(dǎo)電率之比至少相差3-5倍(如銅上鍍鉻)。雖然鋼鐵基體亦為導(dǎo)電體,但這類任務(wù)還是采用磁性原理測(cè)量較為合適。


              一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀 

              應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

              一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005umxiao測(cè)量面積0.002m㎡  深凹槽20mm以上

              鍍層厚度分析儀使用注意事項(xiàng)

              1.儀器供電電壓必須與儀器銘牌上的電壓一致。儀器必須使用三線插頭連到一個(gè)已接地的插座上。

              2.鍍層厚度分析儀為精密儀器,建議配備的穩(wěn)壓電源。計(jì)算機(jī)和儀器應(yīng)配備不間斷電源(UPS)。

              3.鍍層厚度分析儀應(yīng)特別注意與存在電磁的場(chǎng)合隔離開來(lái)。

              4.儀器適合在10~40℃(50~104℉)的環(huán)境溫度下操作使用,在0~50℃(32~122℉)的溫度下存放。操作和存放的允許濕度范圍在0~65%之間(非冷凝)。在操作過(guò)程中,環(huán)境溫度和濕度應(yīng)保持恒定。

              5.儀器曝曬在陽(yáng)光下時(shí)溫度極易超過(guò)50℃。所以請(qǐng)不要在這樣的環(huán)境下操作和存放儀器,以避免高溫對(duì)儀器造成損害。

              6.為避免短路,嚴(yán)禁儀器與液體直接接觸。如果液體進(jìn)入儀器,請(qǐng)立刻關(guān)閉儀器并在重新使用前請(qǐng)技術(shù)人員整體檢查儀器。

              7.鍍層厚度分析儀不能用于酸性環(huán)境和場(chǎng)合。

              8.不要弄臟和刮擦元素片或調(diào)校標(biāo)準(zhǔn)片,否則會(huì)造成讀數(shù)錯(cuò)誤。

              9.不要用任何機(jī)械或化學(xué)的方法清除元素片或調(diào)校標(biāo)準(zhǔn)片上的污物。如果必要的話,可以用一塊不起毛的布輕輕擦除臟物。


              江蘇一六儀器   X熒光鍍層測(cè)厚儀  一六儀器、一liu品質(zhì)!各種涂鍍層、膜層的檢測(cè)難題歡迎咨詢聯(lián)系!

              1X射線激發(fā)系統(tǒng)垂直上照式X射線光學(xué)系統(tǒng)空冷式微聚焦型X射線管,Be窗標(biāo)準(zhǔn)靶材:Rh靶;任選靶材:W、Mo、Ag等功率:50W(4-50kV,0-1.0mA)-標(biāo)準(zhǔn)75W(4-50kV,0-1.5mA)-任選X射線管功率可編程控制裝備有安全防射線光閘

              2濾光片程控交換系統(tǒng)根據(jù)靶材,標(biāo)準(zhǔn)裝備有相應(yīng)的一次X射線濾光片系統(tǒng)二次X射線濾光片:3個(gè)位置程控交換,Co、Ni、Fe、V等多種材質(zhì)、多種厚度的二次濾光片任選位置傳感器保護(hù)裝置,防止樣品碰創(chuàng)探測(cè)器窗口

              3準(zhǔn)直器程控交換系統(tǒng)多可同時(shí)裝配6種規(guī)格的準(zhǔn)直器,程序交換控制多種規(guī)格尺寸準(zhǔn)直器任選:-圓形,如4、6、8、12、20mil等-矩形,如1x2、2x2、0.5x10、1x10、2x10、4x16等

              4測(cè)量斑點(diǎn)尺寸在12.7mm聚焦距離時(shí),測(cè)量斑點(diǎn)尺寸小至為:0.078x0.055mm(使用0.025x0.05mm準(zhǔn)直器)在12.7mm聚焦距離時(shí),測(cè)量斑點(diǎn)尺寸大至為:0.38x0.42mm(使用0.3mm準(zhǔn)直器)

              5X射線探測(cè)系統(tǒng)封氣正比計(jì)數(shù)器裝備有峰漂移自動(dòng)校正功能的高速信號(hào)處理電路

              6樣品室CMI900CMI950-樣品室結(jié)構(gòu)開槽式樣品室開閉式樣品室-樣品臺(tái)尺寸610mmx610mm300mmx300mm-XY軸程控移動(dòng)范圍標(biāo)準(zhǔn):152.4x177.8mm任選:50.8mmx152.4mm50.4mmx177.8mm101.6x177.8mm177.8x177.8mm610mmx610mm300mmx300mm-Z軸程控移動(dòng)高度43.18mmXYZ程控時(shí),152.4mmXY軸手動(dòng)時(shí),269.2mm-XYZ三軸控制方式多種控制方式任選:XYZ三軸程序控制、XY軸手動(dòng)控制和Z軸程序控制、XYZ三軸手動(dòng)控制


              江蘇一六儀器    X射線熒光鍍層測(cè)厚儀  元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   

                                                                   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物 

                   x射線熒光鍍層測(cè)厚儀(國(guó)產(chǎn))是一款針對(duì)金屬電鍍層(鍍金、鍍鎳、鍍鋅、鍍錫等)厚度的,通過(guò)X熒光照射出產(chǎn)品,每個(gè)元素反射出的二次特征譜線,通過(guò)檢測(cè)器分析出強(qiáng)度來(lái)金屬鍍層的厚度,完全達(dá)到無(wú)損、快速分析的效果,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于電子電器、五金工具、電鍍企業(yè)(鋁平行管、電鍍五金),連接器企業(yè)、開關(guān)企業(yè)等。根據(jù)色散方式不同,X射線熒光分析儀相應(yīng)分為X射線熒光光譜儀(波長(zhǎng)色散)和X射線熒光能譜儀(能量色散)。

                   x射線熒光鍍層測(cè)厚儀性能優(yōu)勢(shì)

              采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測(cè)試高度

              定位激光確定定位光斑,確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊

              滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求

              高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)

              良好的射線屏蔽作用

              測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)

              minimum  φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求

              移動(dòng)平臺(tái)可定位測(cè)試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm

              鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)x射線熒光鍍層測(cè)厚儀技術(shù)參數(shù)

              一次可同時(shí)分析多達(dá)五層鍍層

              度適應(yīng)范圍為15℃至30℃

              鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)

              分析含量一般為2ppm到99.9%




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