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但是曝光顯影大多用傳導熱來進行的。因此，其固化是由表面向內部逐步進行或完成的，因而是呈梯度式的固化程度狀態。

顯影是在硅片表面光刻膠中產生圖形的關鍵步驟。光刻膠上的可溶解區域被化學顯影劑溶解，將可見的島或者窗口圖形留在硅片表面。

曝光顯影和成像柵格數之間的關系：使用柵格曝光尺進行實驗。它們的關系如下。測試參數：印刷網：T膜厚度。-。mil預烘烤：℃，分鐘，顯影：％NaCO溫度℃顯影時間：秒