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              發布時間:2021-08-01 06:37  

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              真空鍍膜應用,簡單地理解就是在真空環境下,利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統鍍膜方式,真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜。真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支,在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。


              真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有障礙。

              鍍的膜并非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。

              真空鍍膜的物理過程

              基本原理可分為三個工藝步驟:

              鍍料的氣化:即鍍料的蒸發、升華或被濺射從而形成氣化源

              鍍料粒子((原子、分子或離子)的遷移:由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞,產生多種反應。

              鍍料粒子在基片表面的沉積


              相對于金屬、陶瓷、木材等材料,塑料具有來源充足、性能易于調控、加 方便等優勢,因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結構材料,大量應用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業領域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、 磨性低等缺陷,如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜,即可賦予塑料程亮的金屬外觀,合適的金屬源還可大大增加材料表面耐磨性能,大大拓寬了塑料的裝飾性和應用范圍。







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