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發(fā)布時間：2021-10-09 20:33
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鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀
1. 光路形式：Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀
2. 光室恒溫：(30±0.2)℃
3. 光柵類型：離子刻蝕全息平面光柵
4. 分辨率：不大于0.007nm
5. 刻線密度：3600g/mm
6. 高頻發(fā)生器震蕩頻率：40.68MHz 功率穩(wěn)定度：0.1%（長期25℃典型值）
7. 震蕩類型：自激式
8. 進(jìn)樣方式：蠕動泵進(jìn)樣
配有多種霧室（旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室）
9. 霧1化器：同心霧化1器
10. 重復(fù)性：RSD ≤1.0%
11. 穩(wěn)定性：RSD ≤2.0%（2小時）
12. 冷卻氣：10-20L/min
13. 輔助氣：0-1.5 L/min
14. 載氣：0.4-1L/min
15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（長×寬×高）
16. 重量：240公斤
應(yīng)用領(lǐng)域
Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀可用于地質(zhì)、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業(yè)、農(nóng)業(yè)、食品商檢、水質(zhì)等各領(lǐng)域及學(xué)科的樣品分析。可以快速、準(zhǔn)確地檢測從微量到常量約70種元素。
售后服務(wù)保障
售后服務(wù)工程師出自生產(chǎn)線、技術(shù)力量無法比較的
多年的國際合作經(jīng)驗打造了完善的售后服務(wù)體系
自主知識產(chǎn)權(quán)產(chǎn)品使儀器的運(yùn)行成本特別是備件成本大幅降低
鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數(shù)
1. 光學(xué)系統(tǒng)：中階梯二維分光光學(xué)系統(tǒng)，焦距400mm
2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學(xué)分辨率：0.007nm（200nm處）
3. 光柵規(guī)格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm
4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器，小巧有效
5. 40.68MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限
6. 自動匹配調(diào)節(jié)
7. 全組裝式炬管，降低了維護(hù)成本
8. 計算機(jī)控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵，具有快速清洗功能
9. 實驗數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好：重復(fù)性
RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩(wěn)定性：RSD
≤2.0%（大于3小時）
鋼研納克：固態(tài)光源ICP，國產(chǎn)單道掃描ICP進(jìn)入固態(tài)光源時代
穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500
全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、，全自動負(fù)載匹配，速度快、精度高，全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性的測試，具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
垂直炬管的設(shè)計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。
簡潔的炬管安裝定位設(shè)計，快速定位，的位置重現(xiàn)。
具有低功率待機(jī)模式，待機(jī)時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行，節(jié)約使用成本。
實時監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場總線，保障通訊可靠。
