金屬化學(xué)氣相沉積服務(wù)為先,東莞拉奇納米

鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。

光學(xué)鍍膜材料的原材料，絕大部分屬于儲(chǔ)量非常小的稀有金屬。這些稀有金屬隨著科技的發(fā)展，其需求長(zhǎng)期看漲。目前，已趨成熟并能迅速實(shí)現(xiàn)工業(yè)化的鋼帶真空鍍膜技術(shù)是電子束鋼帶真空鍍膜。隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，隨著我們生活水平的提高，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將為我們的生活帶來(lái)更多的精彩。

首飾振動(dòng)電鍍以濺射的方法進(jìn)行真空鍍膜，由于其鍍膜方式的不同，同樣的鍍材所制備的薄膜效果也會(huì)不一樣的，雖然肉眼無(wú)法看出來(lái)，但確實(shí)擁有一定的優(yōu)勢(shì)。而相對(duì)別的的鍍膜法來(lái)說，成本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，可選擇原料種類多，這也是近年來(lái)一些電鍍加工廠比較推崇的鍍膜電鍍技術(shù)。 膜厚穩(wěn)定性好，由于濺射鍍膜膜層的厚度與靶電流和放電電流具有很大的關(guān)系，電流越高，濺射效率越大，相同時(shí)間內(nèi)，所鍍膜層的厚度相對(duì)就大了，因?yàn)橹灰央娏鲾?shù)值控制好，需要鍍多厚，或者多薄的膜層都可以了。

膜層結(jié)合力強(qiáng)，在真空電鍍加工過程中，有部分電子撞擊到基材表面，表面原子，并且產(chǎn)生清潔的作用，而鍍材通過濺射所獲得的能量比蒸發(fā)所獲得的能量高出1到2個(gè)數(shù)量級(jí)，帶有如此高能量的鍍材原子撞擊到基材表面時(shí)，有更多的能量可以傳遞到基材上，產(chǎn)生更多的熱能，使被電子的原子加速運(yùn)動(dòng)，與部分鍍材原子更早互相溶合到一起，其他鍍材原子緊隨著陸續(xù)沉積成膜，加強(qiáng)了膜層與基材的結(jié)合力。而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。

高真空離子鍍適用范圍比較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的商品。傳統(tǒng)水電鍍技術(shù)流程雜亂、環(huán)境污染大、設(shè)備成本高、對(duì)作業(yè)人員身體傷害大，電鍍出來(lái)產(chǎn)品外觀損壞大，產(chǎn)品穩(wěn)定性差。

 為什么要在真空鍍膜工藝之前在基材表面先噴一層底漆呢？因?yàn)樗芰匣耐獗砜赡懿黄交绻麤]有先噴底漆直接使用高真空鍍膜的話，如果客人要求很高，產(chǎn)品可能會(huì)因?yàn)楣ぜ獗聿还饣辜庸こ鰜?lái)的產(chǎn)品光澤度相對(duì)會(huì)低一點(diǎn)，金屬質(zhì)感相對(duì)也會(huì)有所下降，如果基料有氣泡，水泡這狀況更高明顯，就無(wú)法滿足客人需求。這是因?yàn)椋?）電子槍發(fā)射的電子束經(jīng)聚焦后可達(dá)到極高的能量密度，轟擊坩堝鍍膜材料，可使其溫度達(dá)到3000℃以上，遠(yuǎn)比電弧溫度高。