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真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統鍍膜方式，真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜。真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。

真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。不但可以制備可控制的超薄薄膜、原子級平整度的表面、上百層的疊加膜，而且還可以控制薄膜的成分和配比。真空鍍膜技術為制造各種各樣的清潔表面提供了手段。這些薄膜的制備均為科學的研究和發展提供充分的條件。派瑞林涂層材料

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜加工設備完成真空鍍膜過程其工藝之多非常復雜，真空鍍膜加工原理有不同可分很多種類，因為真空鍍膜加工工作環境要要求高真空度而擁有統一名稱。所以對于不同原理的真空鍍膜加工，影響均勻性的因素也不盡相同。