微弧氧化生產線價格廠家供應 日照微弧氧化電源

微弧氧化的設備

      1. 微弧氧化電源

　　因電壓要求較高(一般在510—700V之間)，需專門定制。通常配備硅變壓器。電源輸出電壓：0—750V可調。電源輸出大電流：5A、10A、30A、50A、100A等可選。

      2.氧化槽

      一般采用pp焊接槽即可，pp槽具有堅固耐用，防腐蝕。

      3.溶液冷卻和攪拌系統

      在微弧氧化過程中，會在工件表面產生瞬時高溫高壓，為了及時能帶走產生的熱量及平衡穩定氧化槽的溫度，必須配備外循環和熱交換方式，溶液的循環同時達到攪拌和冷卻槽液的目的。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術

微弧氧化技術的應用  

       微弧氧化膜由于具有抗磨損、耐腐蝕、高介電和隔熱等特性，應用在許多領域。如，航空、航天、汽車、船舶、機械、石油、化工、、電子等行業。由于微弧氧化過程中工件表面具有較高的氧化電壓并通過較大的電解電流，使產生的熱量大部分集中于膜層界面處，而影響所形成膜層的質量，因此微弧氧化必須使用配套的熱交換制冷設備，使電解液及時冷卻，保證微弧氧化在設置的溫度范圍內進行。盡管微弧氧化技術已經在這些方面有些應用，并且呈現新的應用前景，但是推廣應用的力度還不夠，這里包括技術和經濟等多方面原因，有待于我們進一步深入研究。微弧氧化技術、微弧氧化電源、微弧氧化生產線

微弧氧化技術

       為提高鋁材料的表面性能，常用的方法有電鍍，激光，陽極氧化等，其中微弧氧化技術是基于陽極氧化發展起來的一種先進的表面強化處理技術。微弧氧化是把工件放入溶液中施加高電壓進行氧化。在相同的微弧電解電壓下，電解質濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。隨著電壓的遞增，逐步進入火花放電階段，并通過瞬時高溫燒結作用使氧化膜結構發生變化，生成陶瓷膜層。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術、微弧氧化工藝

      在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在，因此陶瓷層的形成過程非常復雜，至今還沒有一個合理的模型能描述陶瓷層的形成。

      微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜，至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。微弧氧化技術具有操作簡單和易于實現膜層功能調節的特點，而且工藝不復雜，不造成環境污染，是一項全新的綠色環保型材料表面處理技術，在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。