cvd化學(xué)氣相沉積信息推薦「多圖」

涂敷過程在真空下進(jìn)行，好稱它為蒸汽沉積聚合（VDP），作為一種涂敷技術(shù)，VDP提供了可靠的先進(jìn)性,明顯要由于刷涂，浸涂，噴涂等其它涂敷技術(shù)。它的先進(jìn)性主要來源于它是由氣相單體直接形成固體涂層而沒有一個(gè)液態(tài)的中間過渡階段。因此在傳統(tǒng)方法中由于表面張力而引起的從棱刃處流淌到低的溝槽里積料的現(xiàn)象它不會發(fā)生。Parylene涂層是從基材的表面向外"生長"，形成一個(gè)均勻厚度的敷形涂層，好多試驗(yàn)證明這種涂敷處理涂層厚度在1微米以下時(shí)也是無的。

Parylene是獨(dú)特的聚對(poly-P-xylylene)聚合物系列的通用名稱，是一種分子級敷型涂層材料，根據(jù)分子結(jié)構(gòu)的不同，可分為Parylene N、C、D、HT、F型等多種類型。Parylene D在較高溫度下仍有優(yōu)良的介電性能和物理機(jī)械性能，有較高的穩(wěn)定性。本文將對其單體制備方法和成膜方法進(jìn)行簡單總結(jié)。

Parylene 薄膜的制備聚合過程

       常用制備派瑞林的方法是化學(xué)氣相沉積法(CVD)，反應(yīng)物質(zhì)在氣態(tài)條件下發(fā)生空間氣相化學(xué)反應(yīng)，在固態(tài)基體表面直接生成固態(tài)物質(zhì)，進(jìn)而在基材表面形成涂層的一種工藝技術(shù)。派瑞林薄膜制備過程為環(huán)狀二聚體在高溫下兩個(gè)相連碳鍵斷裂，生成具有活性的二單體，當(dāng)其從高溫環(huán)境進(jìn)入室溫環(huán)境的沉積室時(shí)，不穩(wěn)定的單體就會聚合成膜。整個(gè)制備工藝過程分為三步：單體的汽化、裂解、在基材表面進(jìn)行附著沉積。

Parylene具有的干膜潤滑特征。涂層可大大地改動了橡膠等產(chǎn)品的外觀潤滑性。根據(jù)ASTMD1984方法，相對靜止物體分別測得Parylene HT(SCS)、N和C的摩擦系數(shù)（COF）為0.15、0.25和0.29。

Parylene涂敷是由活性的對雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成。氣態(tài)的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個(gè)細(xì)小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬的高純聚合物。它沒有助劑溶劑等小分子，不會對基材形成傷害，厚度均勻的防護(hù)層和優(yōu)異的性能相結(jié)合，使Parylene涂層僅需0.02-0.05㎜就能對印制電路組件的表面提供非常可靠的防護(hù)，甚至經(jīng)過鹽霧試驗(yàn)，表面絕緣電阻也不會有很大改變，而且較薄的涂層對元器件工作時(shí)所產(chǎn)生的熱量消散也非常有利。另外由于分子結(jié)構(gòu)對稱性較好，使它在較高的頻率下仍有較小的介質(zhì)損耗和介電常數(shù)，它的這種高頻低損耗特性使它為高頻微波電路的可靠防護(hù)創(chuàng)造了條件。

光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。

Parylene C

是一種很好的介電材料，具有特別很是低的介質(zhì)損耗、是系列中第二個(gè)具有商業(yè)價(jià)值的成員。

Parylene HT(SCS)是系列中的第三個(gè)成員.具有更低的介電常數(shù)(即透波性能好)。它由雷同的單體系方式成，只是將其中兩個(gè)芳香烴氫原好的熱穩(wěn)固性，長期可在350攝氏度使用，短期可子被氯原子庖代。