臺灣氣相沉積設備廠商誠信企業推薦“本信息長期有效”

PVD是物理氣相沉積技術的簡稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術，常見的PVD沉積技術有：蒸發技術、濺射技術、電弧技術。

目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蝕性能的方法有添加合金元素和外加防護性鍍層,但主要以添加防護性鍍層(金屬鍍層、有機物鍍層和復合鍍層)為主。防護性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。添加鍍層的方法有電鍍、化學鍍、物理氣相沉積等。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。

真空鍍膜設備應用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是必不可少的一項技術。但是真空鍍膜設備在使用一段時間后，表面就會留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果。

那么如何處理真空鍍膜的灰塵呢？

1、設備使用的源材料要符合必要的純度要求。

2、設備樣品取出后要注意放置環境的清潔問題。

3、真空鍍膜一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理。

4、真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。

5、真空鍍膜適當的增加環境的濕度，有利于降低周圍環境的懸浮固體顆粒物。

6、工作人員在操作時需要戴手套、腳套等，要有專門的服裝。

由于灰塵對鍍膜效果會產生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設備中留下灰塵，應該在使用中注意以上幾點來盡量避免，除此也要注意經常清洗，避免灰塵越積越多。

鍍膜技術在信息存儲領域中的應用 薄膜材料作為信息記錄于存儲介質，有其得天獨厚的優勢：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉極為迅速；與膜面平行的雙穩態狀態容易保持等。車燈鍍膜機 為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用鍍膜技術。

鍍膜技術在傳感器方面的應用 在傳感器中，多采用那些電氣性質相對于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體材料。

蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。PVD是物理氣相沉積技術的簡稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術，常見的PVD沉積技術有：蒸發技術、濺射技術、電弧技術。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。

主要分類有兩個大種類: 蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。