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發布時間:2021-08-03 19:20  
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稀土拋光粉的粒度及粒度分布對拋光粉性能有重要影響。
對于一定組分和加工工藝的拋光粉,平均顆粒尺寸越大,則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數情況下,顆粒尺寸約為4μm的拋光粉磨削速度。相反地,如果拋光粉顆粒平均粒度較小,則磨削量減少,磨削速度降低,玻璃表面平整度提高,標準拋光粉一般有較窄的粒度分布,太細和太粗的顆粒很少,無大顆粒的拋光粉能拋光出高質量的表面,而細顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。

因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉(包括稀土拋光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土拋光粉,由于在液晶顯示器與電腦光盤領域的應用逐漸受到重視,產量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經問世,隨著現代科學技術的發展,其應用前景不可預測,但目前其市場份額還很小,屬于研發階段。

原料→干法細磨→配料→混粉→焙燒→磨細篩分→低級系稀土拋光粉產品。主要設備:球磨機,混料機,焙燒爐,篩分機等。主要指標:產品中w(REO)≥95%,w(CeO2)≥50%;稀土回收率≥95%;產品粒度為1.5μm~2.5μm.該產品適合于眼鏡片、電視機顯象管的高速拋光之用。目前,國內生產的低級系稀土拋光粉的量,約占總產量的90%以上。
