汽車配件真空鍍膜設備品牌企業,拉奇納米

物理氣相沉積技術基本原理可分三個工藝步驟：

(1)鍍料的氣化：即使鍍料蒸發，異華或被濺射，也就是通過鍍料的氣化源。

(2)鍍料原子、分子或離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞后，產生多種反應。

(3)鍍料原子、分子或離子在基體上沉積。

認識PVD物理氣相沉積技術

物理氣相沉積技術工藝過程簡單，對環境改善，無污染，耗材少，成膜均勻致密，與基體的結合力強。該技術廣泛應用于航空航天、電子、光學、機械、建筑、輕工、冶金、材料等領域，可制備具有耐磨、耐腐飾、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層。

CVD 制備銥高溫涂層人們之所以對作涂層材料感興趣是由于這類金屬優良的性能 。銥具有較強的能力和較高的熔點而受到重視, 是一種較理想的高溫涂層材料 。

20 世紀 60 年代以來, 世界航空航天技術飛速發展,一些高熔點材料(如石墨碳和鎢鉬鉭鈮等難熔金屬)被大量使用,但這些材料的一個共同的致命缺點是能力差。

60 年代美國材料實驗室(AFML)對石墨碳的銥保護涂層進行過大量的研究, 采用了多種成型方法制備銥涂層 ,其中包括化學氣相沉積法 。雖然沒有制備出質量令人滿意的厚銥涂層, 但仍認為 CVD 是一種非常有希望且值得進一步研究的方法。

不銹鋼基材真空物理氣相沉積鍍工藝，生產“黃金卷”

這種鋼卷以不銹鋼為基材，通過PVD（真空物理氣相沉積鍍工藝）制造成所需顏色，該技術廣泛應用于航空航天、電子、光學、機械、建筑、輕工、冶金、材料等領域，可制備具有耐磨、耐腐蝕、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層。日常生活中以手表的外殼、表帶為常見，另外就是家電、裝飾材料等。

濺射（或陰極噴涂）和蒸發是用于薄膜沉積的常用的PVD方法。

在PVD技術中，釋放或碰撞的熱物理過程將要沉積的材料（目標）轉化為原子粒子，然后在真空環境中在氣態等離子體條件下將原子粒子定向到基材，通過冷凝或化學反應生成物理涂層。投射原子的積累。該技術的結果是，要沉積的材料類型具有更高的靈活性，并且可以更好地控制沉積膜的成分。連接到高壓電源和真空室的兩個電極構成了PVD反應器。