廣州磁控濺射鍍膜機(jī)值得信賴

中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)

中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)是克服了陽(yáng)極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過(guò)程的工藝穩(wěn)定性，同時(shí)，提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對(duì)靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局。該類設(shè)備廣泛應(yīng)用于表殼、表帶、手機(jī)殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

什么樣的真空鍍膜層比較好真空磁控濺射鍍膜機(jī)的電氣控制系統(tǒng)介紹

據(jù)了解，2012年全國(guó)真空鍍膜設(shè)備達(dá)43億，真空鍍膜商場(chǎng)在敏捷擴(kuò)大，一同也反映出咱們的物品的請(qǐng)求與質(zhì)量越來(lái)越高，為滿意消費(fèi)者需求，許多需求對(duì)商品進(jìn)行鍍膜的廠家都購(gòu)買(mǎi)了真空鍍膜設(shè)備。真空鍍膜設(shè)備鍍膜細(xì)密，均勻，能夠讓廠商出產(chǎn)出來(lái)愈加美麗的，愈加經(jīng)用的的商品來(lái)適合商場(chǎng)。

咱們判別一款鍍膜設(shè)備的好壞首要是從以下幾個(gè)方面來(lái)說(shuō)判別的。個(gè)方面是設(shè)備鍍膜是不是細(xì)密，是不是均勻。一個(gè)一款設(shè)備鍍膜細(xì)密，均勻，那么毋庸置疑這款設(shè)備即是一款十分好的設(shè)備，一款能夠遭到廠家期待的設(shè)備。鍍膜細(xì)密，均勻的設(shè)備能夠出產(chǎn)出來(lái)愈加美麗，愈加經(jīng)用的商品，美麗的，經(jīng)用的商品是消費(fèi)者所喜愛(ài)的。已然消費(fèi)者喜愛(ài)這類商品，那么廠家就會(huì)從商品中獲利。廠家就能夠商品中獲利，從鍍膜細(xì)密，均勻的商品中獲利，就自然會(huì)愈加的注重鍍膜細(xì)密，均勻的出產(chǎn)。會(huì)投入愈加的精力在出產(chǎn)鍍膜細(xì)密，均勻的商品上。而公司要出產(chǎn)出來(lái)鍍膜細(xì)密，均勻的商品就需求有一個(gè)能夠鍍膜細(xì)密，均勻的設(shè)備。所以從這一點(diǎn)上就能夠看出好的設(shè)備，鍍膜細(xì)密，均勻的設(shè)備才是廠家所需求的。

專業(yè)鍍膜有啥準(zhǔn)則？

A：取穩(wěn)辟險(xiǎn)寧可做欠好不行出問(wèn)題

B：先輕后重細(xì)盤(pán)可拋好就不必粗盤(pán)

C：質(zhì)效并重保質(zhì)保量下合理優(yōu)化計(jì)劃

D：主次分明相對(duì)狀況下辨明主次方針清晰

E：不行胡來(lái)辦法竅門(mén)很首要

鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢(shì)

當(dāng)今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種，一種是化學(xué)氣象沉積，一種是化學(xué)鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學(xué)鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)所需其他氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過(guò)程。在化學(xué)薄膜的過(guò)程中，容易產(chǎn)生溶液污染，如果鍍層表面雜質(zhì)多，鍍出來(lái)的效果不好。

化學(xué)鍍膜需要的反應(yīng)溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無(wú)法受此高溫，及時(shí)硬質(zhì)合金，雖然能經(jīng)受高溫，但在化學(xué)鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會(huì)造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質(zhì)合金上鍍TiN，晶體擴(kuò)散出來(lái)的碳會(huì)與溶液發(fā)生反應(yīng)形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強(qiáng)度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機(jī)很好的解決了化學(xué)鍍膜產(chǎn)生的一系列問(wèn)題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電技術(shù)，利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過(guò)等離子體沉積在工件表面，解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問(wèn)題，不會(huì)產(chǎn)生有毒或污染物質(zhì)，鍍出來(lái)的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高2~10倍。

裝飾性真空鍍膜設(shè)備涂層的作用和要求

裝飾性真空鍍膜設(shè)備涂層的作用和要求 裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種。為了滿足產(chǎn)品的不同技術(shù)要求，可施涂底涂層和面涂層，或在面涂層上再施涂彩色涂層、保護(hù)涂層等。這些涂層的主要作用是： 提高膜層的結(jié)合力。采用相同的鍍膜方法，在塑料基體上施涂底涂層再真空鍍膜，可提高膜層的結(jié)合力。 降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度。一般鍍件表面都存在微觀不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填補(bǔ)鍍件表面的缺陷，使鍍件表面達(dá)鏡面平整度。 能保護(hù)金屬膜層。真空鍍膜層一般只有100nm，膜層的耐磨性和抗變色能力較差，施涂面涂層后，鍍膜層與外界不直接接觸，對(duì)鍍膜層能起保護(hù)作用。