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物理l氣相沉積法主要有真空蒸鍍、濺射和離子鍍。

真空蒸鍍：在真空中加熱使金屬、合金或化合物蒸發，然后凝結在基體表面上的方法叫真空蒸鍍。

濺射：濺射是利用高速正離子轟擊某一靶材（陰極），使靶材表面原子以一定能量逸出，后在工件表面沉積的過程。

離子鍍：離子鍍借助于一種惰性氣體的輝光放電使欲鍍金屬或合金蒸發離子化，并在這些荷能離子轟擊基體（工件）表面并同時沉積在其上形成鍍膜。

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真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

真空蒸鍍是將沉積材料與工件同放在真空室中，然后加熱沉積材料使之迅速熔化蒸發，當蒸發原子與冷工件表面接觸后便在工件表面上凝結形成具有一定厚度的沉積層日。

真空鍍膜的形式：蒸發鍍膜

工藝原理：

1）在真空室中，膜料被加熱變成蒸發原子，蒸發原子在真空條件下不與殘余氣

體分子碰撞而到達工件表面；

2）蒸發原子與基材碰撞后一部分被反射，另一部分被吸附；

3）吸附原子在基材表面發生表面擴散。

離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，習而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射向上獲得鍍層優越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽0窄縫。等其他方法難鍍的部位。