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發布時間:2021-06-11 06:55  
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在烘干的絕緣介質層表面上的光量應在200至250之間,其曝光時間可由光梯尺表等試驗或供應商提供的條件進行和調整,一般應采用較大曝光量和較短時間曝光。對于采用低功率曝光機,由于光能量低,造成曝光時間長,則光的折射、衍射等加重,這對于制造精細節距或高密度互連的導通孔是不利的。
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將曝光顯影得到的基板進行固烤。相比于現有工藝流程,其減少了一次曝光、一次顯影、一次固烤與一次清洗上述四個步驟,而減少了工藝流程,提高了生產效率,且提高了制程良率。光材料,將步驟B)得到的基板再次進行預烤,將預烤后的基板依次進行曝光與顯影。
公司將為客戶提供更加滿意的產品及服務而努力的服務品質和良好的客戶關系是公司賴以生存和發展的根本。我們與客戶的合作,不在于短期利益,而是以品質贏得共同進步!真誠期望與您攜手并進,共創未來。