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發布時間:2021-01-22 21:45  
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真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。
真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術,是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜,從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優于固體材料本身的優越性能,達到提高產品質量、延長產品壽命、節約能源和獲得顯著技術經濟效益的作用。
光學鍍膜
無論是無機材料還是有機材料制成的眼鏡片,在日常的使用中,由于與灰塵或砂礫(氧化硅)的摩擦都會造成鏡片磨損,在鏡片表面產生劃痕。與玻璃片相比,有機材料制成的硬性度比較低,更易產生劃痕。通過顯微鏡,我們可以觀察到鏡片表面的劃痕主要分為二種,一是由于砂礫產生的劃痕,淺而細小,戴鏡者不容易察覺;另一種是由較大砂礫產生的劃痕,深且周邊粗糙,處于中心區域則會影響視力。
真空鍍膜廠家依據技術請求挑選鍍制方法及方法,如電阻蒸騰(鎢絲、鉬舟、石墨舟)磁控源(同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等)以靶材原料及尺度多弧源(Ф60,Ф80直徑靶材,氣動、電動的引弧等),真空丈量可挑選數字式智能真空計及其優異的丈量規管,及其它丈量儀器,如主動壓強操控儀等。膜厚丈量可選用方塊電阻丈量儀,透過率計等。充氣方法可選用質量流量計、浮子流量計 針閥及相應的充氣閥門,并可挑選多路充氣管路及相應流量參數。
PVD真空鍍膜加工在模具行業的應用
涂層設備主要應用于工模具制造行業、太陽能利用和轉化行業、LED光源和半導體行業;涂層服務的涂層種類包括類金剛石涂層(DLC)和其它金屬陶瓷類涂層(CrN,TiN等),廣泛應用于模具、金屬切削刀具和有耐磨要求的零件上。
PVD真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。
真空鍍膜是一種產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術用于生產激光唱片(光盤)上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層,包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。