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發(fā)布時間:2021-09-23 18:33  
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PVD真空鍍膜適用范圍
廣泛用于電子產(chǎn)品,門窗五金,廚衛(wèi)五金,燈具,海洋用品,珠寶飾品,工藝品,以及其他裝飾品的加工制造。PVD在日用五金領(lǐng)域已經(jīng)相當普及,許多世界的五金制造商已經(jīng)開始研發(fā)PVD產(chǎn)品并開始大規(guī)模生產(chǎn)。豐富的色彩使PVD極易搭配,的抗惡劣環(huán)境,以及易清潔,的特性使它深受消費者的喜愛。尤其銅色系列涂層,在世界范圍內(nèi)被廣泛采用,用于替代銅和電鍍銅制品。
真空鍍膜--磁控濺射鍍膜技能
一、磁控濺射鍍膜-濺射原理:
1.使chamber到達真空條件,一般控制在(2~5)E-5torr
2.chamber內(nèi)通入Ar,并啟動DC power
3.Ar發(fā)作電離:Ar ? Ar + e-
4.在電場效果下,(電子)會加快飛向anode(陽極)
5.在電場效果下,Ar 會加快飛向陰極的target(靶材),target粒子及二次電子被擊出,前者到達substrate(基片)表面進行薄膜生長,后者被加快至陰極途中促成更多的電離。
6.筆直方向分布的磁力線將電子約束在靶材表面附近,延長其在等離子體中的運動軌道,進步它參與氣體分子磕碰和電離過程的幾率的效果。
pvd真空蒸發(fā)鍍膜:在真空條件下,利用氣體放電使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時,把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物蒸斷在基片上。離子鍛把輝光放電、等離子體技術(shù)與真空蒸發(fā)鍛膜技術(shù)結(jié)合在一起。原理:真空離子膜膜是真空蒸發(fā)和真空濺射鍛膜結(jié)合的一種鍛膜技術(shù)。離子鍛的過程是在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)(膜材)部分離化, 在工作氣體離子或者被蒸發(fā)物質(zhì)的離子轟擊作用下,把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在被錦基片表面的過程。
真空濺射鍍膜:定義:給靶材施加高電壓(形成等離子狀態(tài)),使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈,而在樣品表面形成金屬皮膜的方法。真空濺射鎖膜的優(yōu)缺點:優(yōu)點:對于任何待鎖材料,只有能做成靶材,就能實現(xiàn)濺射。濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合良好。濺射所獲得的薄膜純度高,致密性好。濺射工藝可重復(fù)性好,膜厚可控制,同時司以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜。