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EDI設備的污染判斷及清洗方法

EDI設備的污染判斷及清洗方法 雖然EDI膜塊的進水條件在很大的程度上減少了膜塊內部阻塞的機會，但是隨著設備運行時間的延展，EDI膜塊內部水道還是有可能產生阻塞，這主要是EDI進水中含有較多的溶質，在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進水中含有大量的鈣鎂離子（硬度超過0.8ppm）、CO2和較高的 PH 值，將會加快沉淀的速度。遇到這種情況，我們可以通過化學清洗的方法對EDI膜塊進行清洗，使之恢復到原來的技術特性。

高純水的含量小于0

什么是高純水 高純水是化學純度極高的水，其中的雜質的含量小于0.1mg/L，一般在電子、、航天或其他特殊行業工藝生產中，為了達到產品所需工藝用水，一般需要電導率0.055μS/cm（電阻率18.2 MΩ?cm）的理論純水，統稱為高純水或超純水 目前人們制成的高純水的純度已經達到99.999999%，其中雜質含量低于0.01mg/L，將水中的導電介質幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體和有機物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/L以下，電導率小于0. 2μs/cm。

高純水設備性能優勢可連續,穩定地生產高品質純水

高純水設備性能優勢 可連續，穩定地生產高品質純水，無需因樹脂再生而停機。 無污染物排放，既環保又省去了廢液處理的投資。 設備結構緊湊，占地面積小，節省空間，同時還具有節能優點。 日常保養，操作簡單，勞動強度低。 主要應用行業 廣泛用于微電子工業，半導體工業，發電工業，制藥行業和實驗室,也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產用水、發電廠的鍋爐的補給水，以及其它應用高純水。