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發布時間:2020-12-11 08:18  
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興之揚不銹鋼蝕刻小編給大家介紹超薄材料的蝕刻加工能力:
相對于沖壓工藝,特別是對一硬材質材料和超薄材料,沖壓是存在限制和難點的:主要體現在沖壓會造成一些精密零件的材料變形,零件側邊緣會存在卷邊毛剌。而這恰恰是有些零件精密產品所不允許的!而一旦沖壓模具確定好后,想要更改的話,就會造成大量的模具成本的浪費。而蝕刻加工正好可以解決沖壓工藝所不能達到的要求。蝕刻加工可以針對超薄材料進行隨進的模版更改設計,而其成本在大批量生產的情況下,甚至可以忽略不計。而且蝕刻工藝不會對材料和零件產生毛剌。(3)蝕刻的安全應引起重視,應戴防毒面具或口罩,防止意外事故發生,尤其是氨水的氣味,大量吸入對人體有害。光滑的零件表面完全可滿足產品裝配的要求。
興之揚316不銹鋼網片小編給大家介紹什么是二氧化硅的濕式蝕刻:
在微電子組件制作應用中,二氧化硅的濕式蝕刻通常采用HF溶液加以進行(5)。而二氧化硅可與室溫的HF溶液進行反應,但卻不會蝕刻硅基材及復晶硅。反應式如下:SiO2 6HF=H2 SiF6 2H2O
由于HF對二氧化硅的蝕刻速率相當高,在制程上很難控制,因此在實際應用上都是使用稀釋后的HF溶液,或是添加NH4F作為緩沖劑的混合液,來進行二氧化硅的蝕刻。NH4F的加入可避免氟化物離子的消耗,以保持穩定的蝕刻速率。而無添加緩沖劑HF蝕刻溶液常造成光阻的剝離。典型的緩沖氧化硅蝕刻液(BOE:BufferOxideEtcher)(體積比6:1之NH4F(40%)與HF(49%))對于高溫成長氧化層的蝕刻速率約為1000?/min。316L可以經受住海洋環境下的侵蝕,但是長期浸在海水中會泛起點蝕和縫隙侵蝕。
在半導體制程中,二氧化硅的形成方式可分為熱氧化及化學氣相沉積等方式;而所采用的二氧化硅除了純二氧化硅外,尚有含有雜質的二氧化硅如BPSG等。然而由于這些以不同方式成長或不同成份的二氧化硅,其組成或是結構并不完全相同,因此HF溶液對于這些二氧化硅的蝕刻速率也會不同。但一般而言,高溫熱成長的氧化層較以化學氣相沉積方式之氧化層蝕刻速率為慢,因其組成結構較為致密。我們一貫恪守以誠為本的經營理念,遵循以人為本的企業文化,追求用戶至上的高服務水準,希望我們的真誠能換來更多客戶的支持與指導,并與您共度坎坷而不懈怠,攜手同進,共創美好明天。
興之揚蝕刻的優勢有哪些?
與傳統的技術相比,興之揚蝕刻具備非常顯著的三大優勢,那便是:交期快,價格優惠,產品精密度高、質量有保證!
一:交期快:興之揚已有12年的蝕刻加工經驗。先進的生產設備,專業的蝕刻技術開發團隊使得我們能快速地完成客戶的產品。
我們承諾在3個工作日內按質按量完成客戶的樣品。加急樣品在1-2個工作日內完成。
由于我們開發出來的模塊化設計方案,可任客戶隨意更改圖紙設計,這也減少了產品進入市場的時間,讓您獲得先機!
二:加工價格優惠:與國內外其他蝕刻加工廠相比,我們的加工價格具備相當大的競爭優勢!這也是很多企業選擇我們的原因之一!
三:產品精密度高,質量有保障!通過化學蝕刻技術,我們可以生產出外形復雜,公差要求極為嚴格的精密金屬元件(小公差為 /-0.01mm),
包括那些沖壓根本無法做到的,孔徑很小,甚至無連接點的產品!無論是打樣,還是成千上萬地批量生產,興之揚都致力于為您做到交期快,質量為先!