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發布時間：2020-12-14 10:11
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脈沖激光沉積細節介紹
很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧氣壓力（>100 Torr）下冷卻是有利的。所有Pioneer 系統設計的工作壓力范圍。從它們的額定初始壓力到大氣壓力。這也有益于納米粒子的生成。
Pioneer PLD 系統的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的均勻性，同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。淺的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點，導致密度均勻性的損失。
為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵流體，消除油的回流對薄膜質量的影響，所有Pioneer 系統的標準配置都采用無油真空系統。
我們的研究表明靶和基片的距離是獲得較佳薄膜質量的關鍵參數。Pioneer 系統采用可變的靶和基片的距離，對沉積條件進行較大的控制。
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脈沖激光沉積系統的特點有哪些？
? 超高真空不銹鋼腔體
? 可集成熱蒸發源或濺射源
? 可旋轉的耐氧化基片加熱臺
? 流量計或針閥準確控制氣體流量
? 標準真空計? 干泵與分子泵
? 可選配不銹鋼快速進樣室
? 可選配基片-靶材距離自動控制系統
? 是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設備
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