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發布時間:2021-10-24 03:01  
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真空鍍膜主要分為裝飾鍍和功能鍍膜兩大類。真空鍍膜在顏色多樣性、結構設計、性能多樣性及應用領域等方面不斷突破。真空鍍膜膜層的結構設計也日趨復雜。從傳統的單一膜層到多層的復合,提升了膜層的各項性能。應用領域的突破,除了用于傳統手表、首飾、手機等用于裝飾外,PVD真空鍍膜在、航天航空、新能源汽車等多個領域得到迅速的發展。
真空鍍膜技術可使用的材料廣泛:可作為真空鍍膜材料有幾十種,包括金屬、合金和非金屬。真空鍍膜技術性能優良:真空鍍膜厚度遠小于電鍍層,但涂層的耐摩擦和耐腐蝕性能良好,孔隙率低,而且無氫脆現象,相對電鍍加工而言可以節約大量金屬材料。
待真空鍍膜電鍍的素材必須達到以上表面要求,才能進爐真空爐體內電鍍。一般情況下,素材表面在滿足使用的條件下,表面光潔度越好,膜層結合力越好,效果也越好。
真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。真空鍍膜技術可使用的材料廣泛:可作為真空鍍膜材料有幾十種,包括金屬、合金和非金屬.真空鍍膜加工還可以加工出多層結構的復合膜,滿足對涂層各種不同性能的需求.
摩擦系數較低,耐腐蝕性較好,耐磨性和抗沖擊性良好。陰極電弧離子鍍具有高的靶電離率和強的膜基鍵合力的優點,但是在沉積過程中產生了許多大顆粒,這影響了膜的表面粗糙度。磁控濺射具有成膜粗糙度小,無大顆粒,光滑均勻的特點。然而,反應磁控濺射具有高反應性氣體或金屬靶的電離率,并且所獲得的膜往往具有許多空隙和缺陷,這傾向于導致不充分和致密的膜結構和差的耐腐蝕性。目前,兩種技術主要用于去除大顆粒污染。第二種是在運輸過程中對液體顆粒進行磁過濾。過濾陰極真空電弧沉積是一種磁場,引導等離子體繞過障礙物,而大顆粒由于電中性而與障礙物碰撞,從而去除大顆粒并避開薄膜。