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              稀土拋光粉生產推薦廠家,康運復合

              發布時間:2021-05-03 05:39  

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               國外于60年前開始生產稀土拋光粉,二十世紀90年代已形成各種標準化、系列化的產品達30多種規格牌號。

                目前,國外的稀土拋光粉生產廠家主要有15家(年生產能力為200噸以上者)。其中,法國羅地亞公司年生產能力為2200多噸。是目前大的稀土拋光粉生產廠家。美國的拋光粉年產量能力達1500噸以上。

              。日本生產稀土拋光粉的原料采用氟碳礦、粗氯化和氯化稀土三種,工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產在燒結設備和技術上均具特色。1968年,我國在上海躍龍化工廠研制成功稀土拋光粉。




              此外,稀土拋光粉也可以根據其添加劑的不同種類來劃分,稀土拋光粉生產技術屬于微粉工程技術,稀土拋光粉屬于超細粉體,國際上一般將超細粉體分3種:納米級(1nm~100nm);亞微米級(100nm~1μm);微米級(1μm~100μm),據此分類方法,稀土拋光粉可以分為:納米級稀土拋光粉、亞微米級稀土拋光粉及微米級稀土拋光粉3類,通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級,其粒度分布在1μm~10μm之間,稀土拋光粉根據其物理化學性質一般使用在玻璃拋光的后工序,進行精磨








                主要指標:產品中w(REO)=99%,w(CeO2)=99%;稀土回收率約95%;平均粒經1μm~6μm(或粒度為200目~300目),晶形完好。該產品適用于高速拋光。這種高拋光粉早代替了古典拋光的氧化鐵粉()。

                1.4.2中系稀土拋光粉的制備

                用混合稀土氫氧化物(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%)為原料,以化學方法預處理得稀土鹽溶液,加入中間體(沉淀劑)使轉化成w(CeO2)=80%~85%的中級系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為:

                原料→氧化→優溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級系稀土拋光粉產品。主要設備:氧化槽,優溶槽,酸溶槽,沉淀槽,過濾機,煅燒爐,細磨篩分機及包裝機。


              原料→干法細磨→配料→混粉→焙燒→磨細篩分→低級系稀土拋光粉產品。主要設備:球磨機,混料機,焙燒爐,篩分機等。主要指標:產品中w(REO)≥95%,w(CeO2)≥50%;稀土回收率≥95%;產品粒度為1.5μm~2.5μm.該產品適合于眼鏡片、電視機顯象管的高速拋光之用。目前,國內生產的低級系稀土拋光粉的量,約占總產量的90%以上。






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