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手機真空納米鍍膜機的特點

(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環境，以保證制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質的不良影響。

(2)各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子，以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進，大大擴大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。

(3)蒸發或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。

蒸發真空鍍膜機的原理及性能,你了解多少?

蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等片置于坩堝前方。通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。電氣設備包括測量真空和膜層厚度及控制臺等。因此，排氣系統既要求在較短的時間內獲得低氣壓以保證快速的工作循環，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發源和工作物表面所產生的氣體。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。蒸發式真空鍍膜機常用蒸發源是用來加熱膜材使之汽化蒸發的裝置。真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼制作，有水冷卻裝置。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發系統包括蒸發源和加熱蒸發源的電氣設備。

金屬帶鍍膜設備

HCMRC系列采用模塊化設計，是用于薄膜鍍膜的靈活生產工具。通過我們各種技術的獨特組合，可以生產高反射膜、高吸收膜和裝飾性鍍膜。此外，為了更廣泛的應用，我們還可以沉積防觸摸膜層或者防腐膜層。

不銹鋼帶卷繞鍍膜設備采用公司新開發的磁控濺射鍍膜技術、陰極電弧離子鍍膜技術及獨特設計的離子源輔助沉積鍍膜技術等多種技術組合，成功應用在大卷徑寬幅高真空連續卷繞鍍膜設備中，可正反面鍍制裝飾性膜層和防腐蝕膜層，改善金屬卷材表面特性，擴展應用范圍。

模塊化設計概念，帶材糾偏系統、等離子體預處理、磁控濺射系統、在線測量和工藝控制系統、電子束蒸發靈活組合。膜層均勻性好，沉積，鍍膜速度快，是大型不銹鋼卷連續鍍膜生產線的良好選擇。

鍍膜前后的效果有哪些區別

沒有做涂層時的問題：(1)鏡面很容易亂花，甚至做表面清潔時用柔軟的紙巾擦拭也會亂花(2)使用不到半個月鏡面就亂花或變霧(3)反復多次拆卸拋光，不僅成本高昂，而且嚴重影響生產效率，甚至無法正常交貨給客人

通過鏡面塑膠模具涂層鍍膜設備鍍膜后：(1)鏡面完全沒有受損：光亮度沒有下降、沒有產生小白點或其它花紋等(2)由于涂層后表面硬度的提高，在做模具保養時，用紙巾擦拭，甚至手碰到模具，都不用擔心表面亂花(3)使用時間提高到半年，甚至1年以上(4)在涂層磨損后，仍然可以褪去涂層，再拋光重鍍再使用(5)無論生產效率，還是成本效益，都取得了很好的收益