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發(fā)布時間：2021-08-10 05:24
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光刻膠的應用
光刻膠的應用
1975年，美國的國際半導體設備與材料協(xié)會首先為微電子工業(yè)配套的超凈高純化學品制定了國際統(tǒng)一標準——SEMI標準。1978年，德國的伊默克公司也制定了MOS標準。③光交聯(lián)型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結構，而起到抗蝕作用，可以制成負性光刻膠。兩種標準對超凈高純化學品中金屬雜質和(塵埃)微粒的要求各有側重，分別適用于不同級別IC的制作要求。其中，SEMI標準更早取得世界范圍內的普遍認可。
彩色薄膜少了光刻膠，產(chǎn)生不了絢麗的畫面
顯示器是人與機器溝通的重要界面。光刻膠是整個光刻工藝的重要部分，也是國際上技術門檻較高的微電子化學品之一，主要應用在集成電路和平板顯示兩大產(chǎn)業(yè)。光刻技術決定了集成電路的集成度，技術節(jié)點的推進和實現(xiàn)。
章宇軒介紹,我們在日常工作生活中，之所以能從顯示屏幕上看到色彩斑斕的畫面，就是離不開屏幕中厚度只有2μm、卻占面板成本16％的一層彩色薄膜。然而，彩色薄膜顏色的產(chǎn)生，必須由光刻膠來完成。
LCD是非主動發(fā)光器件，其色彩顯示必須由本身的背光系統(tǒng)或外部的環(huán)境光提供光源，通過驅動器與控制器形成灰階顯示，再利用彩色濾光片產(chǎn)生紅、綠、藍三基色，依據(jù)混色原理形成彩色顯示畫面。
其中，根據(jù)顏色的不同，可以將光刻膠分為黑色、紅色、綠色、藍色四種。彩色濾光片的制作就是在玻璃基板上應用黑色光刻膠制作黑色矩陣，再應用紅、綠、藍光刻膠制作三原色像素。
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4,曝光
前烘好的存底放在光刻膠襯底放在光刻機上，經(jīng)與光刻版對準后，進行曝光，接受光照的光刻膠發(fā)生化學變化，形成潛影，
光源與光刻膠相匹配，也就是光源波長在光刻膠的敏感波段；
對準：指光刻板上與襯底的對版標記應準確對準，這樣一套光刻版各版之間的圖形才能彼此套準。
曝光時間，由光源強度，光刻膠種類，厚度等決定，
另外，為降低駐波效應影響，可在曝光后需進行烘焙，稱為光后烘焙（PEB）
NR77-20000PMSDS
光刻膠運輸標識及注意事項
標簽上標明的意思
R標識
R10 YI燃。
S標識
S16 遠離火源-禁止吸煙。
S 24 避免接觸皮膚。
S 33對靜電放電采取預防措施。
S 9 將容器保持在通風良好的地方。
水生毒性
通過自然環(huán)境中的化學、光化學和微生物降解來分解。一般不通過水解降解。300 ppm對水生生物是安全的。鹵化反應可能發(fā)生在水環(huán)境中。
