高純供氣系統生產廠家承諾守信【艾明坷】

實驗室氣體的危險性

1.有部分氣體具有毒、強腐蝕等特性，其一旦泄漏，就可能會對工作人員及儀器設備造成傷害；

2.多種氣體在同一個環境下使用，如果有兩種會發生燃燒或爆1炸等強烈化學反應的氣體同時泄漏，就可能對工作人員以及儀器設備造成傷害；

3.多數氣瓶出口壓力1高可達15MPa，即150公斤/cm2，如果發生氣瓶口減壓裝置失靈，就有可能將一些部件激1射出去，其能量對人體或設備都具有致命性的傷害。

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電子特氣系統的維護

由于特氣系統是一種具有高風險的供應系統，因此在生產線現場的維護需要專業、有經驗的技術員完成。特氣系統的維護主要包含氣體柜維護和管路維護。

（1）特氣柜又分為全自動特氣柜與半自動特氣柜，每種氣柜的維護方法有一定的區別。全自動氣柜維護自動化程度較高，并且安全可靠。4、壓縮空氣在管路上有過濾雜質和水分的凈化裝置，此凈化裝置需要并聯一路，用單獨的閥門隔離，以方便對過濾裝置進行維修。在維護前關閉鋼瓶閥門，設置換瓶吹掃，程序自動進行抽氣，置換等動作，根據氣體性質的不同，一般至少吹掃60次以上，負壓保壓30分鐘以上，確保氣柜各管路與閥門吹掃干凈。

（2）管路的維護，由于不同的氣體性質不一樣，對管路維護的方法也不相同，對腐蝕性氣體的管道需要多次用高純氮氣吹掃（N2purge），一般至少反復30次，對于有吸附性的液態源氣體，由于管路容易堵塞，需要多次的反復的抽真空，抽完后關閉閥門，1小時后會出現壓力表回表的現象，會造成管道泄漏的誤導，遇到此情況打開真空器發生器繼續抽，直到沒有吸附氣體釋放為止。高純氣體的輸送管路系統隨著微電子工業的發展，超大規模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導體制造工藝中的氣體品質相應越來越高，對氣體中雜質和露1點要求極為嚴格，需要達到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0。

以上兩種系統維護后都必須做正壓與負壓的保壓測試，一般正壓保壓壓力為使用壓力的1.2倍，負壓保壓為-12PSI，保壓時間至少120分鐘以上，由于壓力傳感器（PT）受溫度的影響，一般有2PSI的正負波動。

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特種氣體的應用

電子工業是當今推動科技發展的高新技術產業,由于所用氣體的品種多、質量要求高,為有別于其它領域應用的氣體,人們把這類在電子工業中用的氣體統稱為電子特種氣體,它是當今興起的高技術含量、高投入、高附加值的高新技術產業。電子行業常用的特氣超過三十余種，按危險性質可分為不燃氣體、可燃氣體、氧化性氣體、腐蝕性氣體、毒性氣體等。實驗室氣路安裝要求1、所有氣體管路都由高質量的、完全退火型、無縫連接的不銹鋼管組成。按照物理形態可分為壓縮氣體、液化氣體和低溫氣體。

特種氣體的應用領域主要在集成電路制造、太陽能電池、化合物半導體、液晶顯示器、光纖生產四大領域,其中主要應用于半導體集成電路的生產制造。在半導體工業中應用的有110余種單元特種氣體,其中常用的有20～30種。

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特氣系統知識分享：一般混合氣體

由兩種以上氣體混合配制而成的氣體,而且主要標出大致濃度,即可滿足使用要求,這種氣體稱為一般混合氣體。

對氣體分析儀用氣體,如含氫10%，其余是氦的混合氣以及含甲1烷5%或10%；含氫40%，其余是氮或氦的混合氣被用作氫火焰總烴檢測儀的燃料氣。

在測定放1射性物質時,使用的混合氣有下列幾種組成:含異丁烷0.95%,或含丁烷1.3%，或含丙烷1.5%，或含甲1烷5%～10%，均以氦為底氣。

深海呼吸用含氧20%～60%,其余是氮或氦的混合氣。激光用氣含CO24%～16%,N210%～25%，其余是氦。

光化學反應、動植物實驗室和金屬腐蝕等研究用的混合氣因關系到公害問題,所以其中二氧化氮、二氧1化硫和硫1化氫等都要保持低濃度。