杭州真空磁控濺射鍍膜設備廠家性價比高

真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統介紹

真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統按位置分為控制柜、變壓器組和操作臺三個主要部分。設備所有功能的控制元器件包括可編程PLC、變頻器、調壓模塊等都裝在控制柜里，控制柜的正面安裝有電阻、電離復合真空計，安裝有增壓泵、擴散泵的加熱電流表以及三相電源的指示燈、報警指示燈、緊急停止開關。

變壓器組安裝在真空罐的下面，其輸出端正極直接與對應的蒸發電極棒連接，輸出端負極并接后再與蒸發負極連接。

操作臺安放在真空罐的前方、觀察窗的下方，觸摸屏、各部件的操作控制按鈕、旋鈕或開關都設在操作臺的面板上。

觸摸屏位于操作面板的左上部，卷繞系統參數包括收放卷的張力、卷徑、機器的運行速度等的設置和數據顯示、真空系統的運行指示都在觸摸屏中進行。

操作面板的右上部是蒸發源加熱功率調節鈕和電流表，可以調節和顯示每組蒸發源的功率。

操作面板的下部是功能控制按鈕或開關，包括控制電源總開關、卷繞車進退、擺臂進退、彎輥正反轉、送絲開關及速度快慢、蓋板開關、系統運行的控制模式選擇等。

pvd鍍膜設備鍍出的膜層出現異樣,是什么原因

之前有少數客戶會咨詢我們，為什么PVD鍍膜設備鍍出來的膜，偶爾會出現異樣的情況，問具體是什么原因。經過我們技術人員上門檢查排查，原因各有不同，下面真空小編為大家講解真空鍍膜不良解析。

隨著消費水平的提升，人們對產品外觀要求也越來越更高，PVD鍍膜的應用也越來越廣泛。PVD鍍膜設備也獲得越來越多的制造業廠家認可和喜愛，它的優勢也是顯而易見的。大家都知道機器，真空鍍膜是把金屬或者金屬氧化物變成氣態的分子或原子使其沉積在鍍件表面形成鍍層的一種技術。和傳統的電鍍技術相比污染更小、能耗更低，所需的成本較低，裝飾效果和金屬感都比較強。但是大家也都知道它的缺點，PVD電鍍工藝不良率高、生產效率低、膜后不穩定以使顏色穩定性差等，這是整個行業的痛點。隨著后期技術不斷的發展，環保要求門檻不斷提高，傳統電鍍逐漸將被替代及消費者對產品外觀的提高，真空鍍膜技術在未來會有更廣闊的發展前景。

鍍膜行業發展的趨勢

當今鍍膜行業制作方式主要有兩種，一種是化學氣象沉積，一種是化學鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應所需其他氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在化學薄膜的過程中，容易產生溶液污染，如果鍍層表面雜質多，鍍出來的效果不好。

化學鍍膜需要的反應溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時硬質合金，雖然能經受高溫，但在化學鍍膜制作的環境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質合金上鍍TiN，晶體擴散出來的碳會與溶液發生反應形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機很好的解決了化學鍍膜產生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電技術，利用其他放電是靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及反應產物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學鍍膜中的溶液污染問題，不會產生有毒或污染物質，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質合金刀具可使其壽命提高2~10倍。