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發布時間:2021-10-21 14:36  
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相比MoO3,加入鉬質量濃度相同的Na2MoO4所得膜層耐蝕性更佳,在添加0.42g/L Na2MoO4時制得膜層其腐蝕電流密度比無添加劑時的低約7倍,比基體的低約1個數量級。故加入Na2MoO4的價比更高。
此外,這2種添加劑的加入,均可在AZ91D鎂合金表面制得淺棕色的膜層,起顯色作用的物質是MoO2。
用正交試驗法,對影響7075鋁合金微弧氧化膜層致密性的電參數進行優化。以膜層厚度和孔隙率作為指標,以正向電壓、電流密度、正占空比和脈沖頻率作為因素設計,并開展了四因素三水平的正交試驗。使用掃描電鏡對正交試驗后微弧氧化陶瓷膜層的表面形貌進行了觀察;利用Image J軟件對陶瓷膜層的膜層厚度及孔隙率進行測量。
結果表明:影響微弧氧化陶瓷膜層厚度的電參數順序從大到小依次為:正向電壓〉電流密度〉正占空比〉脈沖頻率;
影響微弧氧化膜層孔隙率的電參數順序從大到小依次為:正向電壓〉電流密度〉正占空比〉脈沖頻率;
采用綜合平衡法確定的電參數的優化結果為:正向電壓550V、電流密度8 A/dm^2、正占空比20%、頻率400Hz。