中頻離子鍍膜機(jī)廠家免費(fèi)咨詢 至成鍍膜機(jī)

真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足，且各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝，在五金、機(jī)械、化工、模具、電子、儀器等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比，在技術(shù)上有哪些創(chuàng)新？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復(fù)利用，大大降低了成本。

2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡(jiǎn)單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時(shí)不經(jīng)任何處理。

3、多弧離子鍍膜無污染，無毒無味，無三廢排放，屬國(guó)家環(huán)保產(chǎn)品技術(shù)。

4、多弧離子鍍膜好處理、使用方便；形狀復(fù)雜的金屬基件都能處理。

5、多弧離子鍍膜硬度大，硬度增強(qiáng)、催化液泡過的金屬基件硬度是多弧離子鍍膜工藝的幾倍。

6、多弧離子鍍膜不會(huì)生銹，催化液浸泡過的金屬基件已滲透表皮里面，不起皮、不脫落。

不同類型鍍膜機(jī)的適用范圍是怎樣的呢？

磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域，如磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等。磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層，如飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽(yáng)能利用領(lǐng)域，如太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等。光學(xué)鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于光學(xué)薄膜領(lǐng)域，如增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。

AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域，如液晶屏、等離子屏等。觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。PECVD磁控生產(chǎn)線：應(yīng)用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于在裝飾飾品上，如手機(jī)殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。低輻射玻璃鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于建筑玻璃方面，如陽(yáng)光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。抗反射導(dǎo)電膜連續(xù)磁控濺射生產(chǎn)線：應(yīng)用于電子產(chǎn)品領(lǐng)域，如液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機(jī)顯示、數(shù)碼相機(jī)和掌聲電腦等。

PVD技術(shù)都有那些分類呢

？PVD真空鍍膜機(jī)物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長(zhǎng)法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過“蒸發(fā)或?yàn)R射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。那么這兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮；PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。

在現(xiàn)階段，PVD鍍膜是不能取代化學(xué)電鍍的，并且除了在不銹鋼材料表面可直接進(jìn)行PVD鍍膜外，在很多其他材料（如鋅合金、銅、鐵等）的工件上進(jìn)行PVD鍍膜前，都需要先對(duì)它們進(jìn)行化學(xué)電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應(yīng)用在一些比較五金制品上，對(duì)那些價(jià)格較低的五金制品通常也只是進(jìn)行化學(xué)電鍍而不做PVD鍍膜。