您好,歡迎來到易龍商務網!
發布時間:2021-08-31 13:08  
【廣告】







隨著鍍膜技術的快速增長,各種類型的真空鍍膜機也開始逐漸出現。但是論起薄膜的均勻性,恐怕所有的真空設備鍍制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響,現在我們就濺控濺射鍍膜機來看看造成不均勻的因素有哪些。
對此,真空鍍膜機廠家指出,它的運作原理其實很簡單。就是通過真空狀態下正交磁場使電子轟擊氣形成的離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車燈鍍膜機廠家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關的有真空狀態、磁場、氣這三個方面。真空狀態就需要抽氣系統來控制的,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空機的存在,要控制好還是不成問題的

各種鍍膜技術都需要一個蒸發源或蒸發靶,以便將蒸發的成膜物質轉化為氣體。隨著來源或目標的不斷提高,制作材料的選擇范圍也大大擴大。無論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機物,都可以氣相沉積各種金屬膜和介質膜,不同的材料可以同時氣相沉積得到多層膜。
蒸發或濺射出的成膜材料是在一般磁控濺射條件下與待鍍工件形成膜的過程。膜厚可以測量和控制。磁控鍍膜機的真空鍍膜技術的特點主要包括真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍、真空束沉積和化學氣相沉積。