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發布時間:2021-01-17 03:53  
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公司產品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務!
光掩膜除了應用于芯片制造外,還廣泛的應用與像LCD,PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種,鉻版(chrome)、干版,凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分,基板和不透光材料。其圖形結構可通過制版工藝加工獲得,常用加工設備為直寫式光刻設備,如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。基板通常是高純度,低反射率,低熱膨脹系數的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小,雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。
在刻畫時,采用步進機刻畫(stepper),其中有電子束和激光之分,激光束直接在涂有鉻層的4-9“ 玻璃板上刻畫,邊緣起點5mm,與電子束相比,其弧形更逼真,線寬與間距更小。有將鉛活字排成活字版,以及用活字版打成紙型現澆鑄成凸版和將圖像經照像或電子分色獲得底片,用底片曬制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有稱為中間掩膜,reticle作為單位譯為光柵),用步進機重復將比例縮小到master maks上,應用到實際曝光中的為工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask復i制過來。
光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構,再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。