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              陜西國產(chǎn)icp光譜儀報價來電咨詢,鋼研納克公司

              發(fā)布時間:2020-12-20 06:08  

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              鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

              檢 出 限:亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L) 長期穩(wěn)定性:RSD ≤ 1.0%(4h,1mg/L)

              光  源

              自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率:27.12MHz

              輸出功率:700W-1600W 功率穩(wěn)定性:< 0.1%

              儀器規(guī)格

              尺寸:寬 x 深 x 高(106cm x 67cm x 75cm) 重  量:約 180kg

              光學(xué)系統(tǒng)

              分析譜線范圍:165-950nm

              分  辨  率: 0.007nm@200nm

              光室恒溫:38℃ ±0.1℃

              CCD 像素:1024x 1024

              單像素面積:24μm x 24μm

              工作環(huán)境

              實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境:相對濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.95%

              排  風(fēng):不小于 400 立方米 / 小時

              電  源:200V~240V AC 單相;50Hz~60Hz;4kVA




              鋼研納克:固態(tài)光源ICP,國產(chǎn)單道掃描ICP進(jìn)入固態(tài)光源時代

              穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500

              全固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小、,全自動負(fù)載匹配,速度快、精度高,全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性的測試,具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

              垂直炬管的設(shè)計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。

              簡潔的炬管安裝定位設(shè)計,快速定位,的位置重現(xiàn)。

              具有低功率待機(jī)模式,待機(jī)時降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運(yùn)行,節(jié)約使用成本。

              實(shí)時監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù),以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場總線,保障通訊可靠。


               

              鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草ICP-AES國家標(biāo)準(zhǔn)

              鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家標(biāo)準(zhǔn)

              儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日,國家標(biāo)準(zhǔn)委決定發(fā)布通知對2014年第二批擬立項國家標(biāo)準(zhǔn)項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標(biāo)準(zhǔn)。主管部門為中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會,歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會,起草單位為鋼研納克檢測技術(shù)有限公司,計劃完成時間為2016年。

              《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標(biāo)準(zhǔn)將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語與縮略語、分類、要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。

              據(jù)介紹,制定該標(biāo)準(zhǔn)旨在提升我國ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性,使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準(zhǔn)入門檻,形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產(chǎn)儀器同國外儀器的性能差距,提高國產(chǎn)ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

              項目起草單位鋼研納克檢測技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年,2009年10月,鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年,鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀,采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級CCD檢測器實(shí)現(xiàn)全譜采集,該儀器是鋼研納克“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項”成果。