磁控多弧復合鍍膜機免費咨詢

連續式磁控濺射鍍膜設備

該系列生產線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET、PC等表面鍍制高質量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機廠家可按用戶要求提供設計，提供全套設備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務。

該系列生產線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET等表面鍍制高質量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。至成鍍膜機廠家可按用戶要求提供設計，提供全套鍍膜設備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務。

優勢：設備模組化設計，易拆卸，維修，保養；高靶材利用率；高生產力及產品良率；環保制程無污染及環保問題；高客制化兼顧產品規格與低投資成本需求；整廠輸出：單片式玻璃觸控面板整廠輸出；CIGS整廠輸出；整廠輸出；卷對卷ITO膜整廠輸出；太陽能整廠輸出；電致變色整廠輸出；

多弧離子真空磁控濺射鍍膜機工作原理蒸發系統的結構與工作原理介紹

多弧離子鍍膜機是一種、無害、無污染的離子鍍膜設備，具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡略、本錢低、出產量大的長處。

真空多弧離子鍍膜機偏壓電源的作業原理

離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜，關于導電靶材，運用直流偏壓電源；非導電靶材，運用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機，可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源

偏壓電源正本即是在陰極和樣品所在位置的陽極之間構成偏壓電場，通常是陰極加負高壓。陰極外表的自由電子在電場效果下定向加快發射，發射電子炮擊氣體分子，使之電離，并且氣體被驅出的電子被電場加快，持續電離別的氣體分子，接二連三，構成雪崩效應，氣體被擊穿，構成穩定的電離電流。此刻離子也被加快，炮擊靶材，將靶材中的原子驅除出外表，并堆積在樣品外表。

鍍膜行業發展的趨勢

當今鍍膜行業制作方式主要有兩種，一種是化學氣象沉積，一種是化學鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應所需其他氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在化學薄膜的過程中，容易產生溶液污染，如果鍍層表面雜質多，鍍出來的效果不好。

化學鍍膜需要的反應溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時硬質合金，雖然能經受高溫，但在化學鍍膜制作的環境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質合金上鍍TiN，晶體擴散出來的碳會與溶液發生反應形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機很好的解決了化學鍍膜產生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電技術，利用其他放電是靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及反應產物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學鍍膜中的溶液污染問題，不會產生有毒或污染物質，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質合金刀具可使其壽命提高2~10倍。