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              福建真空磁控濺射鍍膜機報價信息推薦【創(chuàng)世威納】

              發(fā)布時間:2020-12-08 13:50  

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              鍍膜機保養(yǎng)的重要性

              大家都知道,鍍膜機的運行狀況會直接影響鍍膜成品的質(zhì)量,為了更好的運行,要對鍍膜機進行維護和保養(yǎng),那么,那么知道真空鍍膜機維護和保養(yǎng)的意義嗎?下面,小編給大家講解一下它們的意義。設(shè)備的日常維護保養(yǎng)是在生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)不正常現(xiàn)象,盡快解決。發(fā)現(xiàn)機械泵油減少要添加,不要認為油要定期才更換,否者到了維護時,泵的轉(zhuǎn)子可能會磨損嚴重。例如,一些軸承工件轉(zhuǎn)架卡,要更換軸承,否者等到它完全破碎,問題可就大了,可能會出現(xiàn)電機燒毀等問題。定期維護保養(yǎng),有些人會問一個日常維護和定期維護的區(qū)別?磁場與電場的交互作用使單個電子軌跡呈三維螺旋狀,而不是僅僅在靶面圓周運動。實際上,每個設(shè)備都有使用壽命,例如,擴散泵用的硅油,使用壽命為兩年左右,我們提早更換,這是浪費嗎?不是,在生產(chǎn)中不希望出現(xiàn)設(shè)備故障,把日常維護保養(yǎng)和定期維護保養(yǎng)都做好了,不僅延長了設(shè)備的使用壽命,還減少了運行故障,提高生產(chǎn)效率。

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              磁控濺射鍍膜機的工作原理

              控濺射原理電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與原子發(fā)生碰撞,電離出大量的離子和電子,電子飛向基片。離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長,在運動過程中不斷的與原子發(fā)生碰撞電離出大量的離子轟擊靶材,經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠離靶材,終沉積在基片上。 磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運動路徑,改變電子的運動方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片,真空室內(nèi)壁及靶源陽極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽極在同一電勢。磁場與電場的交互作用使單個電子軌跡呈三維螺旋狀,而不是僅僅在靶面圓周運動。至于靶面圓周型的濺射輪廓,那是靶源磁場磁力線呈圓周形狀。磁力線分布方向不同會對成膜有很大關(guān)系。如適合的本底真空度、靶材適用的濺射功率、工藝氣體和反應(yīng)氣體用量與輸入均勻性、膜層厚度等。 在機理下工作的不光磁控濺射,多弧鍍靶源,離子源,等離子源等都在此原理下工作。所不同的是電場方向,電壓電流大小而已。

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              磁控濺射法的優(yōu)勢

              目前常用的制備CoPt 磁性薄膜的方法是磁控濺射法。磁控濺射法是在高真空充入適量的ya氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電,使ya氣發(fā)生電離。ya離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面,將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質(zhì)的靶和控制不同的濺射時間,便可以獲得不同材質(zhì)和不同厚度的薄膜。磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運動路徑,改變電子的運動方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結(jié)合力強、鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點。

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