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鍍硬鉻的槽液配制

㈠新配槽液一般按鉻酐200G/L，ST—927EK 24G/L，再加入一定量的試劑硫酸，使鉻酐與硫酸的比在100?1.0~1.5范圍內。

㈡配制步驟：

①加入2/3體積的去離子水（不能含有氯離子或硫酸根離子）于潔凈的鍍槽中，加熱至45oC~50oC左右。

②在連續攪拌下逐步加入所需的鉻酐。

③在連續攪拌下分別加入所需量的ST927—EK和硫酸。

④將溶液攪勻后，加入去離子水至蕞終體積。驗證槽液的濃度，必要時予以調整。

⑤加熱溫度至55~65oC。加入適量經本公司認可的抑霧劑。

⑥電解3~4小時后即可試鍍。

電鍍硬鉻工藝，鉻是一種微帶天藍色的銀白色金屬，具有很強的鈍化性能，在大氣中很快鈍化，顯示出的耐腐蝕性能，因此鉻被廣泛應用在各個領域。就目前對鉻應用來說，主要分為裝飾性鍍鉻和鍍硬鉻兩大類。

裝飾性鍍鉻是為了防止基體材料腐蝕和美化外觀，一般鍍層厚度在0.3-0.5um左右;鍍硬鉻則作為一種功能性電鍍，主要是利用金屬鉻的特性以提高機械零件的硬度、耐磨、耐蝕、耐溫等物理化學性能。一般厚度在2-50um，用于零件修復的厚度可達800-1000um。

鍍硬鉻過程中出現短時間斷電后，工件表面會形成較薄的氧化膜，通過階梯式給電活化基體表面后再繼續電鍍，可以保證鍍層的結合力，避免鍍層剝落。步驟如下：

(1) 分別控制直流電壓和陰極電流密度為(3.5 ± 0.5) V 和(20 ± 5) A/dm2，以保證基體上僅有析氫反應(以鍍槽內輕微冒氣泡為準)，持續 5 ～ 10 min。初生態的氫原子具有很強的還原能力，能夠把金屬表面的氧化膜還原為金屬[。

(2) 在 30 min 內逐漸升高電流密度至 100 A/dm2，每 5 min 升高 20 A/dm2