亮面曝光顯影拋光的行業須知「多圖」

曝光也叫感光，放在已經噴了感光油的產品上面，主要的目的是通過曝光讓圖案在材料上對應成型，感光(曝光)過程中要特別注意夾具一定要放好，不能歪斜，否則產品圖案就會出現歪斜現象，從而產生不良品，也要定期檢查，不能出現折疊現象，否則也會出現不良品。滲鍍：所謂滲鍍，即是由于干膜與覆銅箔板表面粘結不牢，使鍍液深入，而造成"負相"部分鍍層變厚及鍍好的錫鉛抗蝕層，給蝕刻帶來問題。很容易造成印制電路板的報廢，是生產中特別要注意的要點。

一般來說除油可以分為：化學或其他方法除去零件表面油污。目前常用方法主要有堿性除油、有機溶液除油及金屬清洗劑除油等等。在蝕刻加工中除油干凈也保證了后期防蝕層制作的質量，防蝕層則影響蝕刻加工的精度。

假如不進行清潔的話，蝕刻加工的溶液就會殘留才資料外表，蝕刻加工是對資料形成不斷的腐蝕，這么蝕刻加工完結以后的資料就會發作變色或許被損壞原有的作用。

曝光顯影工藝就是指利用物質這一特點，由高精度紫外平行光源通過掩膜版對涂有特定吸收波長的油墨進行紫外光照射，然后通過化學去除多余涂層，從而達到圖形轉印的過程稱之為曝光顯影工藝。

曝光顯影技術優勢：

1、解決3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷難題；

2、圖形轉印技術單層、多層套印精度高；

3、霧化噴涂確保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；

4、采用圖形轉印技術，良率較高；

5、4-6寸蓋板單制程產能優勢明顯；

6、較薄的油墨利于貼合，提高制程整體良率。

蝕刻深度的均勻性主要受4個方面的影響：材料、蝕刻溶液、蝕刻過程的物理參數和蝕刻時間。綜上所述，可以知道影響確定蝕刻速度的因素主要有蝕刻深度要求及公差要求。對于蝕刻深度大的工件可以設計成高蝕刻速度的工藝方案當對公差要求高時可采用分次蝕刻的方法進行，即先采用高速度的蝕刻方法，當接近設計要求深度時采用低蝕刻速度的方法來保證公差。對于蝕刻深度淺、公差要求嚴的工件則應采用蝕刻速度較慢的工藝方法。