手機(jī)殼真空鍍膜高性價(jià)比的選擇「多圖」

真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為發(fā)展前途的重要技術(shù)之一，并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術(shù)已在國民經(jīng)濟(jì)各個(gè)領(lǐng)域得到應(yīng)用，如航空、航天、電子、信息、機(jī)械、石油、化工、環(huán)保、軍事等領(lǐng)域。

真空鍍膜的優(yōu)點(diǎn)

中文名:氮化鈦;

顏色:金色;

硬度:2300HV;

摩擦系數(shù):0.23VSNi;

工作溫度:580℃;

優(yōu)點(diǎn):增加表面硬度、減少摩擦力;可低溫涂層，適合低溫零件;避免刀口之積屑現(xiàn)象;廣泛應(yīng)用於鋼料成型加工。

真空電鍍?cè)O(shè)備為更好的進(jìn)行測試、測定室內(nèi)溫度，真空電鍍?cè)O(shè)備使用測溫儀器和控溫儀器，避免溫度過高或不達(dá)標(biāo)真空電鍍?cè)O(shè)備，抽氣系統(tǒng)由各種真空泵及附件按其各自功能組裝使用。

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜區(qū)別

1、真空鍍膜：一般TiN,CrN，TiC，ZrN，電鍍出來的厚度大概是3~5微米。一般情況真空鍍膜的厚度是在設(shè)備上測試不出來了;

2、光學(xué)鍍膜的膜厚測試可以在鍍膜機(jī)的中間頂上裝置膜厚測試儀即可。

早的是光控測試，現(xiàn)在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震動(dòng)的頻率來測試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。

真空鍍膜的工藝流程

真空鍍膜的工藝流程一般依次為：前處理及化學(xué)清洗（表面打磨拋光噴砂，除銹除油去氧化層）→工件在真空中烘烤加熱→離子輝光清洗→金屬離子轟擊→鍍金屬過渡層→鍍膜（通入反應(yīng)氣體）→后處理（爐內(nèi)鈍化或出爐后鈍化去應(yīng)力或防止變色，過UV做防指膜處理等）。

要在調(diào)控PVD鍍膜生產(chǎn)的全過程中做到遇障不驚，PVD鍍膜途徑就是在生產(chǎn)實(shí)踐中摸爬滾打、堅(jiān)韌實(shí)干善于思考，不斷探索和積累等。真空鍍膜應(yīng)用，簡單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。