十堰高純氣體供應商電話

一般條件下，二氧化碳不支持燃燒且比空氣重，將二氧化碳覆蓋在燃著的物體表面，可使物體跟空氣隔絕而停止燃燒，因此二氧化碳可用滅火，是常用的滅火劑。在化學工業上，二氧化碳是一種重要的原料，大量用于生產純堿(Na2CO3)、小蘇打(NaHCO3)、尿素[CO(NH2)2]、碳酸氫銨(NH4HCO3)、顏料鉛白[Pb(OH)2·2PbCO3]等。而商販為了圖方便、貪便宜，自己采用化學反應制氫氣，難以控制瓶內的壓力，再加上用的氫氣瓶密封性不好，氫氣和空氣一接觸，就會引起爆l炸，非常危險。

本底

“本底”是指在色譜載氣中含有的被測雜質氣體，配標準氣用底氣中含的被測雜質氣；測試系統（載氣系統與樣品氣系統）帶來的或被漏入的（以氧、氮為主）該雜質氣。大多數濃度型檢測器都要求本底值遠小于它的l小檢測濃度。當載氣中本底值大于樣品氣中某雜質濃度時，該雜質氣會出現“反峰”。配制標準氣的底氣要求就更嚴格了，否則本底值直接影響定量了。但是質量檢測器（以火焰離子化檢測器為主的）是例外。我們在檢測氧中烴類雜質時發現，用純氮氣（4個“9”）作載氣（氫氣和空氣相同），也能檢測到0.1ppm的烴（一般國產色譜儀），乃至20—50ppm的烴雜質氣。這是因為載氣中的雜質（氧、氫、一氧化碳、二氧化碳FID上無響應，含量≤5ppm）因濃度不變，只能使檢測器（FID）產生一個相應穩定的“基流”，只要基數平衡、噪聲小，0.1ppm的烴類雜質氣仍舊可以在基線上出一個峰。氣相色譜定量規定，l小的檢測峰的判定：l小的峰峰高值是二倍于噪聲值。在航天技術中，液氫加注系統必須先用高純氮置換，再用高純氦置換。過去國產儀器只能檢測0.1ppm的烴是因為儀器的總噪聲值較高。只要將總噪聲值下降一個數量級，則l小檢測峰就會提高一個數量級。我公司的FID敏感度指標仍是Mt≤1×10-11g/s（正十六烷），和其它廠家的指標一樣，但總噪聲值低。因此，“氫焰型氣相色譜儀只能檢測與本底電流值相近”的說法是缺乏根據的。而我們再利用濃縮法，使烴中乙炔檢測可以測到ppb級。

5.表面粗糙度和耐磨性

為了確保輸送的氣體純凈度，要求管道材料內表面有一個極高的光潔度，這樣可以防止污染粒子及濕氣在管壁滯留，可以在吹掃時比較容易吹凈。管材比較光潔而且耐磨，可以在氣流高速沖刷下，產生的金屬粒子就少，不銹鋼比銅管產生粒子要少，所以不銹鋼管耐磨性優于鋼管。與氣瓶接觸的管道和設備要有接地裝置，防止由于產生靜電造成燃燒或爆l炸。

6.抗腐蝕性

微電子生產中，經常使用一些腐蝕性很強的氣體，這時必須采用耐腐蝕的管材，否則管道會被腐蝕，輕則表面產生銹斑，重則管道大面積剝落、穿孔，不但污染氣體，還會發生安全事故。

三氟化氮主要用途是用作氟化l氫－氟化氣高能化學激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所 HF-OF激光器是化學激光器中有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。我們在檢測氧中烴類雜質時發現，用純氮氣（4個“9”）作載氣（氫氣和空氣相同），也能檢測到0。隨著納米技術的發展和電子工業大規模的發展技術，它的需求量將日益增加。